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Tech-Blog

In unserem neuen Tech-Blog informieren wir Sie über technische Novitäten und Innovation. In Form von kurzen Abstracts geben wir weiterführende Informationen zu anwendungsbezogen Technologiebeispielen, die durch unsere Produkten und Technologien realisiert werden konnten.

Hybridpolymere
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Einfache Herstellung eines Arbeitsstempels aus OrmoStamp®
Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.
Hybridpolymere
OrmoStamp®
UV-Imprint
NIL
NIL Materialien
Herstellung von Arbeitsstempeln
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
22. Juni 2021
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Positivresist
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Durchführung der Graustufenlithographie in dicken Schichten mit ma-P 1275G
Die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G ist eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen. Diese dienen als Template für die nachfolgende Strukturübertragung z.B. mittels Metallisierung und Galvanik (und Prägen/ Abformen in Funktions-Polymere), UV Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp® oder thermische Abformung mit PDMS, Trockenätzen.
Positivresist
Grauton Lithografie
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
ma-P 1200G
22. Juni 2021
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Negativresist
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer critical point-Trocknung ermöglicht die direkte Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces. Diese kosteneffektive alternative Materialplattform und Herstellungsmethode reduziert die Anzahl der sonst üblichen Prozessschritte, wie z.B. Materialabscheidung, lift-off oder Ätzen, auf einen einzelnen lithographischen Strukturierungsschritt.
Negativresist
E-Beam Lithography
Nano- und Mikroelektronik
Permanentanwendung
ma-N 2400
14. Juli 2020
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Inkjet-Materialien
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing – InkOrmo und InkEpo
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel einer hohen Kompatibilität für verschiedenste InkjetPrinting-Geräte entwickelt. Das Produktportfolio beinhaltet zwei Materialklassen, die ideale Lösungen für die Herstellung optischer Micro- und Nanostrukturen oder funktionaler Schichten bzw.
Inkjet-Materialien
Inkjet Printing
3D Microstrukturen
Nano- und Mikroelektronik
Wire-Grid Polarisatoren
Diffraktive optische Elemente (DOE)
Organische Elektronik
InkOrmo
InkEpo
mr-UVCur26SF
30. Juni 2020
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Positivresist, Hybridpolymere
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Eine kostengünstige Methode zur Herstellung von Mikrolinsen-Arrays ist das Rundschmelzen des strukturierten Positivresists ma-P 1200G oder ma-P 1200 und die anschließende UV-Abformung der 3D-Strukturen in OrmoStamp® oder OrmoComp®
Positivresist
Hybridpolymere
Thermischer Reflow
3D Microstrukturen
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
ma-P 1200
ma-P 1200G
OrmoStamp
OrmoComp
23. Juni 2020
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Negativresist, Hybridpolymere
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
micro resist technology bietet unterschiedliche Materialsysteme für die Herstellung optischer Wellenleiter an: OrmoCore/OrmoClad und EpoCore/EpoClad.
Negativresist
Hybridpolymere
UV-Lithography
Optische Wellenleiter
Polymer based waveguides
EpoCore/EpoClad
OrmoCore/OrmoClad
23. Juni 2020
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Positivresist, Hybridpolymere
Dreidimensionale optische Strukturen – Grauton-Lithographie
Dreidimensionale optische Strukturen - Grauton-Lithographie
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G und anschließender Strukturübertragung mittels UV-Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp®.
Positivresist
Hybridpolymere
Grauton Lithografie
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
Nanoimprint Lithographie (UV- oder Photo-NIL) für Permanentanwendung
ma-P 1200
OrmoStamp
OrmoComp
23. Juni 2020
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Negativresist, Hybridpolymere
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels  Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen mit OrmoComp®, die aufgrund ihrer Komplexität nicht mit konventionellen Lithographieverfahren herstellbar sind.
Negativresiste
Hybridpolymere
Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen
Mikrofluidik und Mikro-Bio-Fluidik
Lab-On-Chip
OrmoComp
mr-DWL
18. Juni 2020
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Negativresist, Positivresist
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen, teilweise schweren Substraten ist die Sprühbeschichtung.
Negativresist
Positivresist
UV-Lithography
Galvanik
Trockenätzen
Naßätzen
3 D Mikrostrukturen
Halbleiterbauelemente
ma-N 1400
ma-N 400
ma-P 1200
ma-P 1200G
18. Juni 2020
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Negativresist
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie  mit ma-N 2400
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Tief-UV Lithographie unter Verwendung des hochempfindlichen Negativresists ma-N 2400 ist eine Methode für die Herstellung von sub-µm-Strukturen für die Strukturübertragung durch Trocken- oder Nassätzprozesse oder Lift-off Strukturierungen.
Negativresist
Deep-UV Lithographie
Trockenätzen
Naßätzen
Halbleiterbauelemente
ma-N 2400
18. Juni 2020
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.