micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel einer hohen Kompatibilität für verschiedenste InkjetPrinting-Geräte entwickelt.
Das Produktportfolio beinhaltet zwei Materialklassen, die ideale Lösungen für die Herstellung optischer Micro- und Nanostrukturen oder funktionaler Schichten bzw. Strukturen darstellen. InkOrmo und InkEpo weisen sowohl exzellente optische Eigenschaften, als auch eine hohe mechanische, chemische und thermische Stabilität auf. mr-UVCur26SF ist ein lösemittelfreies Material, entwickelt für die Herstellung von Strukturen mittels Nanoimprintlithographie (NIL).

Prozess
A) Mikrolinsen durch Inkjetprinten:
- Typische (aber nicht ausschließliche) Linsengröße von 50 µm bis 1000 µm
- Linsenaspektverhältnis (Höhe/ Durchmesser) durch Substratvorbehandlung einstellbar
- Linsenprofil mit hohem Freiheitsgrad einstellbar durch Verwenden vorstrukturierter Substrate
- Linsengröße (Durchmesser & Höhe) durch gedrucktes Volumen pro Linse einstellbar
B) Nanoimprintlithographie:
- Step&Repeat-Prozess und kontinuierliche Rolle-zu-Rolle (R2R) UV-NIL Prozesse
- Großflächige Nanostrukturierung auf flexiblen Substraten
- Hohe UV-Härtungsgeschwindigkeit erlaubt hohe Rollendrehzahl und hohen Durchsatz
- R2R Durchsatzgeschwindigkeit bis zu 30 m/ min demonstriert
Merkmale
- Kompatibel mit kommerziellen Inkjetprintingengeräten
- UV-härtbare Materialien
- Lösemittelhaltige und lösemittelfreie Inkjetprintingmaterialien
Anwendungen
- Optische Komponenten (Transparenz)
- Packgaging (chemisch inert, optisch und mechanisch stabil)
- Hochvolumige Herstellung von Antireflexionsschichten, (super)hydrophoben Strukturen auf flexiblen
- Substraten und Gitterpolarisatoren
- Plasmaätzmaske (hervorragende Trockenätzstabilität)
micro resist technology GmbH bietet Kundenorientierte Lösungen an z.B. für verschiedene Viskositäten. Bitte kontaktieren Sie uns direkt.
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