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micro resist technology GmbH – führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren und Photopolymeren

Über uns

micro resist technology wurde 1993 gegründet und ist ein Inhaber geführtes Unternehmen mit mehr als 50 Angestellten. Die Unternehmenszentrale einschließlich Entwicklung, Fertigung und Logistik sowie mit eigenem Applikations-Reinraum auf 300m2 befindet sich in Berlin, Deutschland. Das Unternehmen ist erfolgreich nach den Standards: ISO 9001:2015 und ISO 14001:2015 zertifiziert.

Die micro resist technology GmbH gehört zu den weltweit führenden Unternehmen für innovative Photoresiste, Polymere sowie Photopolymere und bietet ein breites Spektrum an spezialisierten Produkten für die Schlüsseltechnologien von heute und den Wachstumsmärkten von morgen.

Wir sind ein führendes Unternehmen in der Entwicklung und Produktion von innovativen Photoresisten, Polymeren und Photopolymeren sowie komplementären Prozesschemikalien für lithographische Fertigungsverfahren bei der Mikro- und Nanostrukturierung. Unsere Produkte finden Anwendung in Schlüsseltechnologien und Wachstumsmärkten wie der Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Optoelektronik, Mikro- und Nanophotonik, Mikro- und Nanotechnik sowie den Life Sciences. Wir stellen uns den Ansprüchen unserer Kunden an Technologielösungen und Materialien, die auch zukünftigen Generationen durch Nachhaltigkeit gerecht wird. Der Erfolg der micro resist technology GmbH ist vor allem in dem Engagement und dem profunden Know-How unserer Mitarbeiter begründet, die die innovativen Produkte und Dienstleistungen entwickeln, produzieren und vermarkten.

Unsere weltweiten Kunden sind innovative produzierende Unternehmen, bei denen die Mikro- und Nanofabrikation einen Teil ihrer wesentlichen Wertschöpfung darstellt. Zu unseren Kunden zählen auch führende Forschungseinrichtungen und Universitäten, die wir in der frühen Phase ihrer Technologieentwicklung unterstützen. Kunden jeder Art schätzen unsere Kernkompetenz im Umgang mit Photoresisten, Polymeren und Photopolymeren sowie die umfassende technologische Beratung mit ganzheitlichem Blick auf lithographische Wechselwirkung von Material und Prozess. Unser Ziel ist zufriedene und begeisterte Kunden zu haben, die in ihren Prozessen zeitnah erfolgreich sind. Als zuverlässiger und erfahrener Partner bieten wir zudem produktbegleitende lithographische Dienstleistungen an.

Als Resist Alliance verstehen wir uns zudem als zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation und ergänzen das Portfolio unserer eigengefertigten Produkte durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte weiterer internationaler Hersteller*. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

* DuPont, Kayaku Advanced Materials, DJ Microlaminates

Historie

Seit der Firmengründung 1993 fertigen wir am Standort Berlin als mittelständisches Chemieunternehmen spezialisierte Materialien für die globalen Hochtechnologiemärkte, in denen Prozesse wie die UV-, Laser-, Röntgen- und Elektronenstrahllithographie, die Nanoimprint-Lithographie sowie assoziierte Strukturierungstechnologien zum Einsatz kommen. In einem kontinuierlichen Innovationsprozess erweitern wir unser Produktportfolio und erarbeiten zudem kundenspezifische Lösungen in höchster Qualität. Wir sind seit 1997 nach DIN EN ISO 9001 (Qualitätsmanagementsystem) und seit 2011 nach DIN EN ISO 14001 (Umweltmanagementsystem) zertifiziert.

Lithographie-Service & Anwendungs-entwicklungen

Auf Basis unserer langjährigen Prozesserfahrungen bieten wir produktbegleitende lithographische Dienstleistungen an.
Tech-blog

Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen mittels Grauton-Lithographie und UV-Abformung

Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G und anschließender Strukturübertragung mittels UV-Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp®.
Tech-blog

Kontaktieren Sie uns.

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© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100