Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.
OrmoStamp®-Arbeitsstempel sind kompatibel mit unseren Hybridpolymeren und Resisten für die Nanoimprintlithographie. Dadurch sind OrmoStamp-Arbeitsstempel zur Replikation von Mikro- und Nanometerstrukturen beispielsweise in den Bereichen
- Mikro und Nanooptik (z.B. für Mikrolinsen, Prismen, Gratings),
- Mikrofluidik,
- Photonik,
- Trockenätzmasken,
einsetzbar.
Das Video dient als Tutorial, wie man mit Hilfe eines einfachen Aufbaus einen OrmoStamp®-Arbeitsstempel herstellt.
Anwendungen
- Herstellung transparenter polymerer Arbeitsstempel
- Kosteneffiziente Alternative zu Quarzstempeln
- UV-basiertes und thermisches Prägen, Nanoimprintlithographie
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