Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer critical point-Trocknung ermöglicht die direkte Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces. Diese kosteneffektive alternative Materialplattform und Herstellungsmethode reduziert die Anzahl der sonst üblichen Prozessschritte, wie z.B. Materialabscheidung, lift-off oder Ätzen, auf einen einzelnen lithographischen Strukturierungsschritt.
Anwendung
Kosteneffektive Herstellung von Resistpolymer-basierten Phase-gradient Meta-surfaces aus high AR ma-N 2400 Strukturen.
ma-N 2400 Negativresiststrukturen weisen für diese Anwendung a) den erforderlichen hohen Brechungsindex, b) eine geringe Absorption im sichtbaren Wellenlängenbereich, c) eine ausreichende thermische Stabilität und d) Lichtstabilität auf.
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ma-N 2400
D. Andrén, J. Martínez-Llinàs, Ph. Tassin, M. Käll, R. Verre „Large-Scale Metasurfaces Made by an Exposed Resist“, ACS Photonics 2020, 7, 4, 885-892, https://doi.org/10.1021/acsphotonics.9b01809