Die soft UV-NIL ist eine ausgezeichnete Methode, um leicht und reproduzierbar Nanostrukturen mit einem weichen Stempel auf ein Substrat zu übertragen. Die so hergestellten Strukturen können dann als permanente Struktur Anwendung finden oder mittels unterschiedlichster Ätzprozesse direkt in das Substrat übertragen werden. Neben harten Arbeitsstempeln (wie OrmoStamp®), finden in immer mehr Industrieprozessen flexible Stempel Einsatz. Ihre Vorteile sind:
- Leichtes Handhabung und Herstellung der Arbeitsstempel
- Hohe Imprinthomogenität und ausgezeichnete Kontrolle der Restschichtdicke
- Verwendung auf nicht planaren Oberflächen
Der im Video verwendete UV-NIL Resist mr-NIL210 kennzeichnet sich durch eine exzellente Kompatibilität zu PDMS-basierten Arbeitsstempeln aus und verfügt über sehr gut Schichtbildungs- und Strukturübertragungseigenschaften. Der mr-NIL210, so wie andere UV-NIL-Resiste, findet Anwendung u.a. in der Strukturübertragung für:
- Photonische Kristalle
- Nano-optische Bauteile
- Patterned Sapphire Substrates
- Organische Elektronik
Dieses Video dient als Tutorial, wie man leicht einen manuellen Imprint mit dem mr-NIL210 in einem möglichst einfachen Versuchsaufbau durchführen kann und eine vollflächige Strukturierung eines Wafers mit Nanostrukturen erreicht. In nahezu jedem Reinraum kann ein vollflächiger Imprint innerhalb weniger Minuten mit dem häufig bereits vorhandenen Equipment realisiert werden.
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