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Graphene 2022, July 5 – 8
Graphene 2022, July 5 – 8
We are happy to announce our participation in the Graphene 2022 in Aachen.
27. Juni 2022
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micro resist technology

Wir sind führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren, Photopolymeren und Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung in Schlüsseltechnologien von heute und Wachstumsmärkten von morgen.

mrt Resiste & Polymere

Zu den Prozesschemikalien

Negativ-Photoresiste

Unsere Negativ-Photoresiste werden eingesetzt für die UV-, DUV-, Laser-, Elektronenstrahl- und Röntgenstrahl-Lithographie …

Positiv-Photoresiste

Unsere Positiv-Photoresiste werden eingesetzt in der UV-Lithographie (Mask Aligner, Laserschreiben, Grautonbelichtung) …

Hybridpolymere

Unsere UV-härtbaren Hybridpolymere werden eingesetzt für die Fertigung polymerbasierter mikro- und nano-optischer Komponenten …

Nanoimprint Resiste / Polymere

Unsere maßgeschneiderten Nanoimprint Resiste werden in unterschiedlichen Technologien der Nanoimprint-Lithographie (NIL) eingesetzt …

Inkjet Materialien

Unsere Inkjet Materialien aus allen Produktgruppen sind in den unterschiedlichsten Anwendungen mittels Inkjet-Print-Verfahren einsetzbar …

Trockenfilmresiste

Unsere Trockenfilmresiste werden eingesetzt als Permanentmaterial für z.B. Anwendungen in optischen Elementen oder in der Mikrofluidik …

Als High-Service-Distributor bieten wir in unserem eigenen Portfolio zusätzlich komplementäre Produkte unserer Partner an.

formerly DOW Chemical – formerly Rohm and Haas

formerly MicroChem MCC

Für den globalen
Hochtechnologiemarkt

Innovative Photoresiste, Polymere, Photopolymere und
Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung.

News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technologie informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich neuer Forschungsprojekte, Konferenzen, sowie veröffentlichen wir regelmäßig unseren Tech-Blog.

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Graphene 2022, July 5 – 8
Graphene 2022, July 5 – 8
We are happy to announce our participation in the Graphene 2022 in Aachen.
27. Juni 2022
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
Joint Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography...
27. Juni 2022
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Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands…
Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands...
Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands. Auf Basis einer wissenschaftlich fundierten Mitarbeiter- und Managementbefragung zeichnet das Zentrum für Arbeitgeberattraktivität (zeag GmbH) alljährlich die attraktivsten Arbeitgeber des deutschen Mittelstandes mit dem „Top Job“-Siegel aus. Besonders überzeugte unser Unternehmen durch gutes Mitarbeiterfeedback im Bereich Führung & Vision.
27. Juni 2022
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NIL Industrialday June 14th – 15th 2022 – The leading Conference for Nanoimprint Lithography and its Applications
NIL Industrialday June 14th – 15th 2022 - The leading Conference for Nanoimprint Lithography and its Applications
We are happy to announce that the next NILIndustrial Day 2022 will take place on June 14th – 15th 2022 as a fully remote summit...
9. Juni 2022
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Join the mrt webinar series and meet the experts
Join the mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
8. Juni 2022
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May 09, 2022 – Technical Workshop (in-person) on Maskless Laser Lithography and NanoFrazor® Patterning for Advanced 2D and 3D Biomedical Devices
May 09, 2022 - Technical Workshop (in-person) on Maskless Laser Lithography and NanoFrazor® Patterning for Advanced 2D and 3D Biomedical Devices
Heidelberg Instruments and micro resist technology GmbH are jointly organizing this technical workshop focusing on systems and applications in biomedical technology...
12. April 2022
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May 05, 2022 – IVAM High-Tech Summit 2022 – Solutions for Sustainability
May 05, 2022 - IVAM High-Tech Summit 2022 - Solutions for Sustainability
We will participate in this year’s IVAM High-Tech Summit as business partner...
12. April 2022
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Geschäftsführerin Gabi Grützner mit dem Bundesverdienstkreuz ausgezeichnet
Geschäftsführerin Gabi Grützner mit dem Bundesverdienstkreuz ausgezeichnet
Unsere Gründerin und geschäftsführende Gesellschafterin Frau Gabi Grützner hat am 17.02.2022 aus den Händen von Stephan Schwarz, Senator für Wirtschaft, Energie und Betriebe das Bundesverdienstkreuz am Bande erhalten.
21. Februar 2022
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White Paper: Advancing greyscale lithography and pattern transfer of 2.5D structures using maP 1200G resist series
White Paper: Advancing greyscale lithography and pattern transfer of 2.5D structures using maP 1200G resist series
In unserem zweiten White Paper konzentrieren wir uns auf die Graustufenlithografie...
19. Januar 2022
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SEMICON EUROPA, 16. – 19. November 2021 München
SEMICON EUROPA, 16. - 19. November 2021 München
Wir sind auf der SEMICON EUROPA in München!
12. Oktober 2021
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
Join us for the Symposium, hosted on gather.town. ...
12. Oktober 2021
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NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
We are happy to present our recent R&D activities virtually on the upcoming 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies...
12. Oktober 2021
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MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
We are more than happy to present our recent R&D activities again far abroad in Japan ...
27. September 2021
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Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
We gladly announce our participation in the upcoming Photonics Days Berlin Brandenburg ...
27. September 2021
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MNE Micro and Nano Engineering Conference – Turin, Italy – September 20th – 23rd, 2021
MNE Micro and Nano Engineering Conference - Turin, Italy - September 20th - 23rd, 2021
The MNE is back this year and we will be again part of it! Visit us at our virtual booth in the expo area to learn about new material developments and new releases...
19. August 2021
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Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication – September 20 th, 2021
Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication - September 20 th, 2021
We are pleased that the series of events “Maskless Laser Lithography and Direct Writing for Nano- and Microfabrication” will be continued within the framework of the MNE conference...
19. August 2021
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Tech-Blogs

In unserem neuen Tech-Blog informieren wir Sie über technische Novitäten und Innovation. In Form von kurzen Abstracts geben wir weiterführende Informationen zu anwendungsbezogen Technologiebeispielen, die durch unsere Produkten und Technologien realisiert werden konnten.

Nanoimprint
Manueller Ansatz für die Realisierung eines UV-Imprints mit mr-NIL210
Die soft UV-NIL ist eine ausgezeichnete Methode, um leicht und reproduzierbar Nanostrukturen mit einem weichen Stempel auf ein Substrat zu übertragen.
UV-NIL resist
Replication of nano patterns
soft working stamp
manual imprinting
UV-PDMS
mr-NIL210
mr-NIL212FC
24. März 2022
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Nanoimprint, Nanoimprint Resists
mr-NIL212FC – Unser neuestes Produkt für UV-Nanoimprint Lithographie
mr-NIL212FC – Unser neuestes Produkt für UV-Nanoimprint Lithographie
micro resist technology GmbH freut sich, ein neues Produkt aus dem Bereich der Materialien für die Nanoimprint Lithographie vorzustellen: mr-NIL212FC.
Nanoimprint Resist
Nanoimprint Lithographie
UV-NIL
Soft UV-NIL
Trockenätzmaske
04. März 2022
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Negativresist, Hybridpolymere
3D Mikrostrukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen mit OrmoComp® oder mr-DWL, die aufgrund ihrer Komplexität nicht mit konventionellen Lithographieverfahren herstellbar sind.
Negativresiste
Hybridpolymere
Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen
Mikrofluidik und Mikro-Bio-Fluidik
Lab-On-Chip
OrmoComp
mr-DWL
11. Februar 2022
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Hybridpolymere
OrmoPrime20 – Ein neuer Haftvermittler für unsere Hybridpolymere
OrmoPrime20 – Ein neuer Haftvermittler für unsere Hybridpolymere
micro resist technology GmbH freut sich ein neues Produkt aus dem Bereich der Hybridpolymere vorzustellen: OrmoPrime20.
Haftvermittler
Hybridpolymere
Prozesschemikalien
Haftvermittler für die Hybridpolymere
OrmoPrime20
24. Januar 2022
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Nanoimprint
COC Formulierungen zur Auftragung dünner Schichten mittels Schleuderbeschichtung für Langezeitanwendungen
COC Formulierungen zur Auftragung dünner Schichten mittels Schleuderbeschichtung für Langezeitanwendungen
Die chemische Natur von Cyclo Olefin Copolymeren (COCs) bietet einzigartige Materialeigenschaften, die die spezielle Materialklasse nicht nur für die Herstellung von unterschiedlichen Spritzgussteilen, sondern auch für verschiedene Dünnschichtanwendungen attraktiv machen.
Nanoimprint Resist
Bio-Anwendungen
Lab-on-Chip
optisches Polymer
Dünnschicht-Formulierung Cycloolefin-Copolymer COC
mr-I T85
21. Januar 2022
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Hybridpolymere
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Einfache Herstellung eines Arbeitsstempels aus OrmoStamp®
Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.
Hybridpolymere
OrmoStamp®
UV-Imprint
NIL
NIL Materialien
Herstellung von Arbeitsstempeln
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
22. Juni 2021
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Positivresist
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Durchführung der Graustufenlithographie in dicken Schichten mit ma-P 1275G
Die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G ist eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen. Diese dienen als Template für die nachfolgende Strukturübertragung z.B. mittels Metallisierung und Galvanik (und Prägen/ Abformen in Funktions-Polymere), UV Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp® oder thermische Abformung mit PDMS, Trockenätzen.
Positivresist
Grauton Lithografie
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
ma-P 1200G
22. Juni 2021
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Negativresist
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer critical point-Trocknung ermöglicht die direkte Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces. Diese kosteneffektive alternative Materialplattform und Herstellungsmethode reduziert die Anzahl der sonst üblichen Prozessschritte, wie z.B. Materialabscheidung, lift-off oder Ätzen, auf einen einzelnen lithographischen Strukturierungsschritt.
Negativresist
E-Beam Lithography
Nano- und Mikroelektronik
Permanentanwendung
ma-N 2400
14. Juli 2020
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Inkjet-Materialien
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing – InkOrmo und InkEpo
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel einer hohen Kompatibilität für verschiedenste InkjetPrinting-Geräte entwickelt. Das Produktportfolio beinhaltet zwei Materialklassen, die ideale Lösungen für die Herstellung optischer Micro- und Nanostrukturen oder funktionaler Schichten bzw.
Inkjet-Materialien
Inkjet Printing
3D Microstrukturen
Nano- und Mikroelektronik
Wire-Grid Polarisatoren
Diffraktive optische Elemente (DOE)
Organische Elektronik
InkOrmo
InkEpo
mr-UVCur26SF
30. Juni 2020
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Positivresist, Hybridpolymere
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Eine kostengünstige Methode zur Herstellung von Mikrolinsen-Arrays ist das Rundschmelzen des strukturierten Positivresists ma-P 1200G oder ma-P 1200 und die anschließende UV-Abformung der 3D-Strukturen in OrmoStamp® oder OrmoComp®
Positivresist
Hybridpolymere
Thermischer Reflow
3D Microstrukturen
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
ma-P 1200
ma-P 1200G
OrmoStamp
OrmoComp
23. Juni 2020
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Negativresist, Hybridpolymere
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
micro resist technology bietet unterschiedliche Materialsysteme für die Herstellung optischer Wellenleiter an: OrmoCore/OrmoClad und EpoCore/EpoClad.
Negativresist
Hybridpolymere
UV-Lithography
Optische Wellenleiter
Polymer based waveguides
EpoCore/EpoClad
OrmoCore/OrmoClad
23. Juni 2020
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Positivresist, Hybridpolymere
Dreidimensionale optische Strukturen – Grauton-Lithographie
Dreidimensionale optische Strukturen - Grauton-Lithographie
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G und anschließender Strukturübertragung mittels UV-Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp®.
Positivresist
Hybridpolymere
Grauton Lithografie
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
Nanoimprint Lithographie (UV- oder Photo-NIL) für Permanentanwendung
ma-P 1200
OrmoStamp
OrmoComp
23. Juni 2020
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Negativresist, Positivresist
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen, teilweise schweren Substraten ist die Sprühbeschichtung.
Negativresist
Positivresist
UV-Lithography
Galvanik
Trockenätzen
Naßätzen
3 D Mikrostrukturen
Halbleiterbauelemente
ma-N 1400
ma-N 400
ma-P 1200
ma-P 1200G
18. Juni 2020
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Negativresist
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie  mit ma-N 2400
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Tief-UV Lithographie unter Verwendung des hochempfindlichen Negativresists ma-N 2400 ist eine Methode für die Herstellung von sub-µm-Strukturen für die Strukturübertragung durch Trocken- oder Nassätzprozesse oder Lift-off Strukturierungen.
Negativresist
Deep-UV Lithographie
Trockenätzen
Naßätzen
Halbleiterbauelemente
ma-N 2400
18. Juni 2020
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Unsere Händler

Die micro resist technology GmbH ist stolz Ihnen ein weltweites Händlernetzwerk bieten zu können. 

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.