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What’s new

Konferenz
SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
We would like to proudly inform you that we will be at the SPIE-AL in San Jose California again this year. You are welcome to meet our experts in the technical exhibition at booth #538.
13. Februar 2024
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micro resist technology

Wir sind führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren, Photopolymeren und Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung in Schlüsseltechnologien von heute und Wachstumsmärkten von morgen.

mrt Resiste & Polymere

Zu den Prozesschemikalien

Negativ-Photoresiste

Unsere Negativ-Photoresiste werden eingesetzt für die UV-, DUV-, Laser-, Elektronenstrahl- und Röntgenstrahl-Lithographie …

Positiv-Photoresiste

Unsere Positiv-Photoresiste werden eingesetzt in der UV-Lithographie (Mask Aligner, Laserschreiben, Grautonbelichtung) …

Hybridpolymere

Unsere UV-härtbaren Hybridpolymere werden eingesetzt für die Fertigung polymerbasierter mikro- und nano-optischer Komponenten …

Nanoimprint Resiste / Polymere

Unsere maßgeschneiderten Nanoimprint Resiste werden in unterschiedlichen Technologien der Nanoimprint-Lithographie (NIL) eingesetzt …

Inkjet Materialien

Unsere Inkjet Materialien aus allen Produktgruppen sind in den unterschiedlichsten Anwendungen mittels Inkjet-Print-Verfahren einsetzbar …

Trockenfilmresiste

Unsere Trockenfilmresiste werden eingesetzt als Permanentmaterial für z.B. Anwendungen in optischen Elementen oder in der Mikrofluidik …

Als High-Service-Distributor bieten wir in unserem eigenen Portfolio zusätzlich komplementäre Produkte unserer Partner an.

formerly DOW Chemical – formerly Rohm and Haas

formerly MicroChem MCC

Für den globalen
Hochtechnologiemarkt

Innovative Photoresiste, Polymere, Photopolymere und
Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung.

News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technology informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich neuer Forschungsprojekte, Konferenzen, sowie veröffentlichen wir regelmäßig unseren Tech-Blog.

Konferenz
SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
We would like to proudly inform you that we will be at the SPIE-AL in San Jose California again this year. You are welcome to meet our experts in the technical exhibition at booth #538.
13. Februar 2024
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Information
Join the mrt webinar series and meet the experts
Join the mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
5. Februar 2024
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Information
NNT (2024) NIL ID – Save-the-date
NNT (2024) NIL ID – Save-the-date
This year, 2024, we will join forces and merge the NNT 2024, the 23rd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies, and the European NIL Industrial Day 2024, the 14th summit focusing on industrial applications of Nanoimprint Lithography, to be held as a united conference on June 24-27, 2024, at ”The Medicon Village” in Lund, Sweden.
26. Januar 2024
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Information
Besuch der Berliner Wirtschaftssenatorin
Besuch der Berliner Wirtschaftssenatorin
Wir beginnen unser neues Jahr gleich mit einem Highlight! Franziska Giffey – Berliner Wirtschaftssenatorin war am 8. Januar 2024 bei uns zu Gast im Rahmen der „Made in Berlin“-Tour des Jahres 2024...
11. Januar 2024
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Information
Semicon Europa 2023, November 14 – 17
Semicon Europa 2023, November 14 - 17
We look forward to welcoming you - customers and partners - again at the SEMICON in Munich...
11. Oktober 2023
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Information
Workshop PolyChrome Berlin
Workshop PolyChrome Berlin
We are pleased to announce our participation in the workshop PolyChrome Berlin on November 2nd 2023
11. Oktober 2023
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Information
Nano-Micro-Lithography Symposium
Nano-Micro-Lithography Symposium
Nano-Micro-Lithography Symposium Save the date: November 6th/7th, 2023
11. Oktober 2023
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information
NNT 2023, October 9 – 11
NNT 2023, October 9 – 11
We are looking forward to our participation in the NNT 2023 conference and exhibition. Taking place in Boston (USA) from October 9th – 11th...
4. Oktober 2023
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Information
MNE – Micro and Nano Engineering Conference 25. – 28.09.2023 in Berlin
MNE - Micro and Nano Engineering Conference 25. - 28.09.2023 in Berlin
We are pleased to inform you that we - micro resist technology GmbH - are the local conference organizers of this year’s MNE 2023 ...
14. Juni 2023
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Information
Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication
Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication
Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication...
14. Juni 2023
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Information
26. Weltleitmesse und Kongress für Komponenten, Systeme und Anwendungen der Photonik 27. – 30. Juni 2023| Messe München
26. Weltleitmesse und Kongress für Komponenten, Systeme und Anwendungen der Photonik 27.–30. Juni 2023 | Messe München
We would like to announce that this year we will also be exhibiting at Laser World of Photonics in Munich.
14. Juni 2023
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Information
NIL industrialday 2023
NIL industrialday 2023
Leading NIL experts will once again meet at the 2023 NIL Industrial Day...
25. Februar 2023
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Konferenz
SPIE Advanced Lithography + Patterning 26 February – 2 March 2023
SPIE Advanced Lithography + Patterning 26 February - 2 March 2023
We are very pleased that we will resume our international trade fair trips in 2023!
24. Februar 2023
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Information
micro resist technology seit 30 Jahren erfolgreich am Markt
micro resist technology seit 30 Jahren erfolgreich am Markt
Der 17. Februar 2023 war für die micro resist technology GmbH ein ganz besonderes Datum...
24. Februar 2023
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Information
SEMICON EUROPA, 15. – 18. November 2022 in München
SEMICON EUROPA, 15. - 18. November 2022 in München
Wir freuen uns Sie auch in diesem Jahr wieder auf unserem Messestand begrüßen zu können...
7. Oktober 2022
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Information
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
Joint Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography...
7. Oktober 2022
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Tech-Blogs

In unserem neuen Tech-Blog informieren wir Sie über technische Novitäten und Innovation. In Form von kurzen Abstracts geben wir weiterführende Informationen zu anwendungsbezogen Technologiebeispielen, die durch unsere Produkten und Technologien realisiert werden konnten.

Negativresist, Trockenresiste
Einfache Anwendung von Trockenfilmresisten
Trockenfilmresiste erlauben die einfache Herstellung von Resistschichten zur Anwendung im Ein- oder Mehrschichtaufbau auf planaren Substraten oder Substraten mit Topographien. Mit diesem „How-to-use“ Video demonstrieren wir die einfache Handhabung und Verwendung von Trockenresistfilmen.
Trockenfilmresiste
Negativresiste
UV-Lithografie
ADEX
SUEX
MX 5000
WBR 2000
MX 5000
Mikrofluidik
2D/ 2.5 Mikrostrukturen
Strukturübertragungsprozesse
Galvanik
Permanentanwendung
22.01.2024
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Hybridpolymere
Neue Prototypen bei den Hybridpolymeren
Neue Prototypen bei den Hybridpolymeren
Poly- und perfluorierte Moleküle erfuhren in den vergangenen Jahren unter der berüchtigten Abkürzung „PFAS“ eine breite öffentliche Aufmerksamkeit, die Anfang des Jahres 2023 in einem bei der ECHA (Europäische Chemikalienagentur) eingereichten Entwurf...
Hybridpolymere
OrmoStamp®FF
OrmoStamp®
PFAS
UV-Replication
Inkjet Printing
InkOrmo
InkOrmoPRO
OrmoComp®
dispensing
Mikrooptiken
29.11.2023
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Negativresist
Lithografie-Dienstleistungen: Herstellung von Mastern für die Mikrofluidik
Lithografie-Dienstleistungen: Herstellung von Mastern für die Mikrofluidik
Im Rahmen unserer Lithografie-Dienstleistungen bieten wir seit 2013 mehrschichtige Master-Wafer für mikrofluidische Anwendungen aus epoxidbasierten Resisten an...
Mikrofluidik
Negativresiste
UV-Lithografie
Lithografie-Dienstleistung
UV-Replikation
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Negativresist, Negative Photoresists
Kombinierte UV & e-beam lithographische Strukturierung im Mix & Match Verfahren in einem Negativresist
Kombinierte UV & e-beam lithographische Strukturierung im Mix & Match Verfahren in einem Negativresist
Die fortschreitende Miniaturisierung in der Halbleiterindustrie und der Mikrosystemtechnik erfordert die Herstellung von zunehmend kleineren und komplexeren Strukturen mit hohen Anforderungen an die Präzision und Auflösung bis in den Nanometer-Maßstab.
Negativresist
UV-Lithographie
E-Beam Lithography
Nano- und Mikroelektronik
Trockenätzen
ma-N 1400
22. Mai 2023
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Negativresist, Negative Photoresists, Trockenresiste
Strukturierung von Trockenfilmresisten im Ein- oder Mehrschichtprozess
Strukturierung von Trockenfilmresisten im Ein- oder Mehrschichtprozess
Trockenfilmresiste erlauben die einfache Herstellung von Resistschichten zur Anwendung im Ein- oder Mehrschichtaufbau auf planaren Substraten oder Substraten mit Topographien.
Trockenresiste
Negativresiste
UV-Lithographie
Strukturübertragungsprozesse
2D/ 2.5D-Mikrostrukturen
Mikrofluidik
Permanentanwendung
Galvanik
27. April 2023
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Nanoimprint
The beauties of Nanoimprint Lithography 2022
The beauties of Nanoimprint Lithography 2022
As 2022 draws to a close, we proudly highlight a major achievement that our nanoimprint lithography (NIL) group has accomplished this year in collaboration with two key players in the European NIL ecosystem.
Nanoimprint Resist
Nanoimprint Lithographie
mr-NIL212FC
UV-NIL
Trockenätzmaske
SMILE Technology
SmartNIL Technology
19.12.2022
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Hybridpolymere
Jetzt neu: Hybridpolymere in Kartuschen
Jetzt neu: Hybridpolymere in Kartuschen
micro resist technology GmbH freut sich unseren Kunden eine neue Gebindeart für Hybridpolymere anbieten zu können. Ab sofort sind OrmoComp®, OrmoStamp®, OrmoCore, OrmoClad und alle Produkte der OrmoClear®-Serie in 55cc Kartuschen mit Luer-Lock Anschluß erhältlich...
Dosieren
Hybridpolymere
OrmoComp®, OrmoStamp®, OrmoClear®
Kartusche
Mikrooptiken
09.September 2022
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Nanoimprint
Manueller Ansatz für die Realisierung eines UV-Imprints mit mr-NIL210
Die soft UV-NIL ist eine ausgezeichnete Methode, um leicht und reproduzierbar Nanostrukturen mit einem weichen Stempel auf ein Substrat zu übertragen.
UV-NIL resist
Replication of nano patterns
soft working stamp
manual imprinting
UV-PDMS
mr-NIL210
mr-NIL212FC
24. März 2022
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Nanoimprint, Nanoimprint Resists
mr-NIL212FC – Unser neuestes Produkt für UV-Nanoimprint Lithographie
mr-NIL212FC – Unser neuestes Produkt für UV-Nanoimprint Lithographie
micro resist technology GmbH freut sich, ein neues Produkt aus dem Bereich der Materialien für die Nanoimprint Lithographie vorzustellen: mr-NIL212FC.
Nanoimprint Resist
Nanoimprint Lithographie
UV-NIL
Soft UV-NIL
Trockenätzmaske
04. März 2022
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Negativresist, Hybridpolymere
3D Mikrostrukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen mit OrmoComp® oder mr-DWL, die aufgrund ihrer Komplexität nicht mit konventionellen Lithographieverfahren herstellbar sind.
Negativresiste
Hybridpolymere
Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen
Mikrofluidik und Mikro-Bio-Fluidik
Lab-On-Chip
OrmoComp
mr-DWL
11. Februar 2022
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Hybridpolymere
OrmoPrime20 – Ein neuer Haftvermittler für unsere Hybridpolymere
OrmoPrime20 – Ein neuer Haftvermittler für unsere Hybridpolymere
micro resist technology GmbH freut sich ein neues Produkt aus dem Bereich der Hybridpolymere vorzustellen: OrmoPrime20.
Haftvermittler
Hybridpolymere
Prozesschemikalien
Haftvermittler für die Hybridpolymere
OrmoPrime20
24. Januar 2022
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Nanoimprint
COC Formulierungen zur Auftragung dünner Schichten mittels Schleuderbeschichtung für Langezeitanwendungen
COC Formulierungen zur Auftragung dünner Schichten mittels Schleuderbeschichtung für Langezeitanwendungen
Die chemische Natur von Cyclo Olefin Copolymeren (COCs) bietet einzigartige Materialeigenschaften, die die spezielle Materialklasse nicht nur für die Herstellung von unterschiedlichen Spritzgussteilen, sondern auch für verschiedene Dünnschichtanwendungen attraktiv machen.
Nanoimprint Resist
Bio-Anwendungen
Lab-on-Chip
optisches Polymer
Dünnschicht-Formulierung Cycloolefin-Copolymer COC
mr-I T85
21. Januar 2022
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Hybridpolymere
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Einfache Herstellung eines Arbeitsstempels aus OrmoStamp®
Um den Anforderungen des Imprints gerecht zu werden, wurde mit OrmoStamp® ein Material zur einfachen und kosteneffizienten Herstellung transparenter, polymerer Arbeitstempel mit exzellenter Strukturtreue bis in den Nanometerbereich entwickelt. Hierbei ist OrmoStamp® sowohl für den thermischen als auch für den UV-basierten Imprint einsetzbar und daher ein geeigneter Ersatz für Stempel auf Silizium- und Quarz-Basis.
Hybridpolymere
OrmoStamp®
UV-Imprint
NIL
NIL Materialien
Herstellung von Arbeitsstempeln
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
22. Juni 2021
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Positivresist
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Durchführung der Graustufenlithographie in dicken Schichten mit ma-P 1275G
Die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G ist eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler Strukturen. Diese dienen als Template für die nachfolgende Strukturübertragung z.B. mittels Metallisierung und Galvanik (und Prägen/ Abformen in Funktions-Polymere), UV Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp® oder thermische Abformung mit PDMS, Trockenätzen.
Positivresist
Grauton Lithografie
Mikro Optiken
Wafer Level Optiken
ma-P 1200G
22. Juni 2021
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Negativresist
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer critical point-Trocknung ermöglicht die direkte Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces. Diese kosteneffektive alternative Materialplattform und Herstellungsmethode reduziert die Anzahl der sonst üblichen Prozessschritte, wie z.B. Materialabscheidung, lift-off oder Ätzen, auf einen einzelnen lithographischen Strukturierungsschritt.
Negativresist
E-Beam Lithography
Nano- und Mikroelektronik
Permanentanwendung
ma-N 2400
14. Juli 2020
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Inkjet-Materialien
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing – InkOrmo und InkEpo
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel einer hohen Kompatibilität für verschiedenste InkjetPrinting-Geräte entwickelt. Das Produktportfolio beinhaltet zwei Materialklassen, die ideale Lösungen für die Herstellung optischer Micro- und Nanostrukturen oder funktionaler Schichten bzw.
Inkjet-Materialien
Inkjet Printing
3D Microstrukturen
Nano- und Mikroelektronik
Wire-Grid Polarisatoren
Diffraktive optische Elemente (DOE)
Organische Elektronik
InkOrmo
InkEpo
mr-UVCur26SF
30. Juni 2020
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Unsere Händler

Die micro resist technology GmbH ist stolz Ihnen ein weltweites Händlernetzwerk bieten zu können. 

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen