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micro resist technology
Gegründet: 1993
Mitarbeiter: 50+ (2020)
Standort: Berlin, Germany
(Unternehmenszentrale, Fertigung und Logistik)
Facility: 3.450 m2 incl.
Reinraum (300 m2)
Zertifiziert nach: ISO 9001:2015 und ISO 14001:2015
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micro resist technology

führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren und Photopolymeren

Liebe Kunden und Geschäftspartner, 

in Anbetracht der aktuellen Lage, der bevorstehenden Osterfeiertage und der Ferien gönnen wir unseren Mitarbeitern etwas Erholung. Bitte nehmen Sie daher zur Kenntnis, dass wir in der Woche vor Ostern lediglich in einem eingeschränkten Betrieb für Sie da sind. Am 08. und 09.04.2020 bleibt unser Unternehmen geschlossen. Ab Dienstag nach Ostern sind wir in gewohntem Umfang wieder für sie da und informieren sie aktuell zur Lage in Bezug auf die COVID-19-Pandämie.

Wir wünschen Ihnen, trotz allem, frohe Ostertage und freuen uns auf die weitere Zusammenarbeit…

Ihr Team der micro resist technology GmbH

Negativ-Photoresiste

Unsere Negativ-Photoresiste werden eingesetzt für die UV-, DUV-, Laser-, Elektronenstrahl- und Röntgenstrahl-Lithographie …

Positiv-Photoresiste

Unsere Positiv-Photoresiste werden eingesetzt für die UV- (Mask Aligner, Laserschreiben, Grautonbelichtung) und Elektronenstrahl-Lithographie …

Hybridpolymere

Unsere UV-härtbaren Hybridpolymere werden eingesetzt für die Fertigung polymerbasierter mikro- und nano-optischer Komponenten …

Nanoimprint Resiste

Unsere maßgeschneiderten Nanoimprint Resiste werden in unterschiedlichen Technologien der Nanoimprint-Lithographie (NIL) eingesetzt …

Inkjet Materialien

Unsere Inkjet Materialien aus allen Produktgruppen sind in den unterschiedlichsten Anwendungen mittels Inkjet-Print-Verfahren einsetzbar …

Trockenfilmresiste

Unsere Trockenfilmresiste werden eingesetzt als Permanentmaterial für z.B. Anwendungen in optischen Elementen oder in der Mikrofluidik …

Resist Alliance

Wir arbeiten eng mit unseren Partnern DuPont Electronics & Imaging, Kayaku Advanced Materials und DJ Microlaminates zusammen.

Sehr geehrte Kunden, lieber Partner,

In den aktuellen Zeiten brauchen wir auch positive Nachrichten: Sein Sie daher herzlich willkommen auf der neugestalteten Website von micro resist technology GmbH!

Schon vor vielen Jahrhunderten wusste der vorsokratische Philosoph: „Nichts ist so beständig wie der Wandel“ (Heraklit von Ephesus). Diesem Anspruch an Innovationskraft verpflichtend, haben wir unsere Präsenz im Internet erneuert. Die Möglichkeiten der digitalen Kommunikation gewinnen in diesen Wochen nochmals an großer Bedeutung, so dass wir mit Stolz auf das virtuelle Schaufenster unseres Unternehmens blicken.

Aufgrund der vielen positiven Kommentare in der Vergangenheit haben wir altbewährte Inhalte natürlich übernommen. Sie werden auch weiterhin einen starken technischen Fokus auf die Produkte unseres Hauses und die unserer strategischen Partner wiederfinden. Allerdings haben wir Ihnen den Zugang zu unserer Produktwelt über eine intuitive Filterfunktion noch vereinfacht. Das Ziel der leichten Handhabung ist, dass Sie schneller einen Überblick erhalten und dennoch ganz bequem eine Auswahl treffen können.

Wir laden Sie herzlich ein, unsere neugestaltete Produktwelt auszuprobieren! Die Produktwelt lebt, ist veränderlich und wird auf sich ändernde Anforderungen reagieren. Wir werden unser Portfolio erweitern und anpassen, sodass sich der zukünftige Besuch weiterhin lohnt. Gern stehen wir Ihnen natürlich auch persönlich zur Seite.

Ihr Team der micro resist technology

Für den globalen
Hochtechnologiemarkt

Innovative Photoresiste, Polymere, Photopolymere und
Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung.

News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technologie informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich neuer Forschungsprojekte, Konferenzen, sowie veröffentlichen wir regelmäßig unseren Tech-Blog.

COVID-19 Auswirkungen und Reaktionen
Operatives Update
Information
Während der weltweiten Pandemie von COVID-19 leisten wir bei der micro resist technology GmbH unseren notwendigen Beitrag...
Kaufmännische(r) Mitarbeiter/ Mitarbeiterin/ All Gender im Verkaufsinnendienst
Kaufmännische(r) Mitarbeiter/ Mitarbeiterin/ All Gender im Verkaufsinnendienst
Stellenausschreibung
Zur Verstärkung unseres Teams suchen wir einen Kaufmännische/r Sachbearbeiter/in für den...
Mitarbeiter/ Mitarbeiterin/ All Gender im Verkaufsinnendienst, Fachbereich Versand
Mitarbeiter/ Mitarbeiterin/ All Gender im Verkaufsinnendienst, Fachbereich Versand
Stellenausschreibung
Zur Verstärkung unseres Teams suchen wir einen Sachbearbeiter für den weltweiten Export...
SPIE Advanced Lithography
SPIE Advanced Lithography
Konferenz
We are pleased to announce our participation in the SPIE Advanced Lithography 2020 in San Jose, California...
Symposium on Nanolithography
Symposium on Nanolithography
Konferenz
Symposium on Nanolithography ~ 18./19.02.2020 in Stuttgart - As in the last years we would like to invite you...
SPIE Photonics West 2020
SPIE Photonics West 2020
Konferenz
We are pleased to announce our participation in the SPIE Photonics West 2020 in San Francisco, California 01-06 February.
SEMICON EUROPA 2019
SEMICON EUROPA 2019
Konferenz
In November from 12th to 15th the Semicon Europe Exhibition will take place in Munich, Germany...
MicroChem Corp. (MCC) changed its name
MicroChem Corp. (MCC) changed its name
Resist Alliance
In September 2019 the 45th International Conference on Micro & Nano Engineering will be held in Rhodes Greece...
September 23. – 26. 2019
TRANSDUCERS 2019 in Berlin - Germany
TRANSDUCERS 2019 in Berlin – Germany
Konferenz
Proudly we announce our participation at TRANSDUCERS 2019 – EUROSENSORS XXXIII in Berlin
ENRIS • Enschede NL
ENRIS • Enschede NL
Konferenz
The European Nanofabrication Research Infrastructure Symposium (ENRIS) 2019 is the 2nd edition of the...
OSA - Optical Design and Fabrication Congress
OSA – Optical Design and Fabrication Congress
Konferenz
We are pleased to announce our participation in the 2019 Optical Design and Fabrication Congress, to be held at OSA Headquarters...
20th CMi Annual Review Meeting
20th CMi Annual Review Meeting
Konferenz
We are pleased to announce our participation in the 20th CMi Annual Review Meeting on Tuesday May 7th, 2019 at the EPFL in Lausanne...
ElectronTechExpo, Moscow
ElectronTechExpo, Moscow
Konferenz
We are pleased to announce our participation in the 17th International exhibition of technologies, equipment and materials for electronic and...
NILindustrialday, Aachen
NILindustrialday, Aachen
Konferenz
In March 2019, micro resist technology will be co-hosting the 9th edition of the NIL Industrial Day symposium with its partner AMO and...
CHEMNITZER SEMINAR
CHEMNITZER SEMINAR
Konferenz
Im März findet das Chemnitzer Seminar Elektronenstrahlithographie: Materialien – Prozesse – Anwendungen am...
Symposium Nanolithography
Symposium Nanolithography
Konferenz
Im März findet das 2. Europäische Symposium Direct Write, Optical, Ion and Electron beam Lithography am IST Austria...

Unsere Händler

Die micro resist technology GmbH ist stolz Ihnen ein weltweites Händlernetzwerk bieten zu können. 

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Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100