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+49 30 641 670 100
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info@microresist.de

Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography

Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Konferenz
Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“...


micro resist technology

Wir sind führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren, Photopolymeren und Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung in Schlüsseltechnologien von heute und Wachstumsmärkten von morgen.

Liebe Kunden und Geschäftspartner,

auch in der aktuellen Situation der weltweiten COVID-19 Ausbreitung fahren mit unserer täglichen Arbeit unter Berücksichtigung des Infektionsschutzes fort und werden unsere Dienstleistungen weiterhin zur Zufriedenheit unserer Kunden erbringen. Wir können einen weitgehend normalen Betriebsmodus beibehalten, der uns die geregelte Bearbeitung von Aufträgen ermöglicht. Im Bestellablauf ändert sich für Sie nichts.

Wir wünschen Ihnen alles Gute und freuen uns auf die weitere Zusammenarbeit …

Ihr Team der micro resist technology GmbH

Desinfektionsmittel von micro resist technology

Infolge der Verbreitung des Coronavirus SARS-CoV-2 in Deutschland hat die Bundesregierung eine verstärkte Nachfrage nach Desinfektionsmitteln zur Hände- und Flächendesinfektion beobachtet, die mit den bisher verfügbaren Ressourcen unter der aktuellen Regulierung nicht ausreichend befriedigt werden konnte. Aus diesem Grunde wurde die BAuA aufgefordert, durch Allgemeinverfügungen kurzfristig Ausnahmezulassungen nach Artikel 55 Abs. 1 der Biozid-Verordnung zu erlassen, um Apotheken, der pharmazeutischen und chemischen Industrie sowie Personen des öffentlichen Rechts die Herstellung und das Bereitstellen auf dem Markt von zusätzlichen Flächendesinfektionsmitteln zu ermöglichen. Auch wir möchten mit dieser Möglichkeit helfen, den Bedarf zu decken. Ab sofort stellen wir Desinfektionsmittel selbst, nach entsprechend vorgegebenen Rezepturen der WHO, her. 

Bei Bedarf und Interesse wenden Sie sich bitte direkt an uns! 

Telefon: 030 6410670 100,
E-Mail: desinfekt@microresist.de, 

www. microresist.de

mrt Resiste & Polymere

Zu den Prozesschemikalien

Negativ-Photoresiste

Unsere Negativ-Photoresiste werden eingesetzt für die UV-, DUV-, Laser-, Elektronenstrahl- und Röntgenstrahl-Lithographie …

Positiv-Photoresiste

Unsere Positiv-Photoresiste werden eingesetzt für die UV- (Mask Aligner, Laserschreiben, Grautonbelichtung) und Elektronenstrahl-Lithographie …

Hybridpolymere

Unsere UV-härtbaren Hybridpolymere werden eingesetzt für die Fertigung polymerbasierter mikro- und nano-optischer Komponenten …

Nanoimprint Resiste / Polymere

Unsere maßgeschneiderten Nanoimprint Resiste werden in unterschiedlichen Technologien der Nanoimprint-Lithographie (NIL) eingesetzt …

Inkjet Materialien

Unsere Inkjet Materialien aus allen Produktgruppen sind in den unterschiedlichsten Anwendungen mittels Inkjet-Print-Verfahren einsetzbar …

Trockenfilmresiste

Unsere Trockenfilmresiste werden eingesetzt als Permanentmaterial für z.B. Anwendungen in optischen Elementen oder in der Mikrofluidik …

Als High-Service-Distributor bieten wir in unserem eigenen Portfolio zusätzlich komplementäre Produkte unserer Partner an.

formerly DOW Chemical – formerly Rohm and Haas

formerly MicroChem MCC

Sehr geehrte Kunden, lieber Partner,

In den aktuellen Zeiten brauchen wir auch positive Nachrichten: Sein Sie daher herzlich willkommen auf der neugestalteten Website von micro resist technology GmbH!

Schon vor vielen Jahrhunderten wusste der vorsokratische Philosoph: „Nichts ist so beständig wie der Wandel“ (Heraklit von Ephesus). Diesem Anspruch an Innovationskraft verpflichtend, haben wir unsere Präsenz im Internet erneuert. Die Möglichkeiten der digitalen Kommunikation gewinnen in diesen Wochen nochmals an großer Bedeutung, so dass wir mit Stolz auf das virtuelle Schaufenster unseres Unternehmens blicken.

Aufgrund der vielen positiven Kommentare in der Vergangenheit haben wir altbewährte Inhalte natürlich übernommen. Sie werden auch weiterhin einen starken technischen Fokus auf die Produkte unseres Hauses und die unserer strategischen Partner wiederfinden. Allerdings haben wir Ihnen den Zugang zu unserer Produktwelt über eine intuitive Filterfunktion noch vereinfacht. Das Ziel der leichten Handhabung ist, dass Sie schneller einen Überblick erhalten und dennoch ganz bequem eine Auswahl treffen können.

Wir laden Sie herzlich ein, unsere neugestaltete Produktwelt auszuprobieren! Die Produktwelt lebt, ist veränderlich und wird auf sich ändernde Anforderungen reagieren. Wir werden unser Portfolio erweitern und anpassen, sodass sich der zukünftige Besuch weiterhin lohnt. Gern stehen wir Ihnen natürlich auch persönlich zur Seite.

Ihr Team der micro resist technology

Für den globalen
Hochtechnologiemarkt

Innovative Photoresiste, Polymere, Photopolymere und
Prozesschemikalien für die Mikro- und Nanostrukturierung.

News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technologie informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich neuer Forschungsprojekte, Konferenzen, sowie veröffentlichen wir regelmäßig unseren Tech-Blog.

Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography

Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Konferenz
Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“...

Digitale HoliFAB Konferenz

Digitale HoliFAB Konferenz
F&E
Als Partner der Projektkonsortiums freuen wir uns die erste digitale HoliFAB Konferenz am 5. November 2020 anzukündigen...

Aktuelle Informationen zu COVID-19

Operatives Update
Information
Während der weltweiten Pandemie von COVID-19 leisten wir bei der micro resist technology GmbH unseren notwendigen Beitrag...

Partnerschaft mit DJ MicroLaminates

Partnerschaft mit DJ MicroLaminates
Information
micro resist technology GmbH und DJ MicroLaminates bekräftigen ihre langjährige Partnerschaft...

Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen

Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Tech-Blog
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer...

Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo

Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing
Tech-Blog
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel...

Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung

Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Tech-Blog
Eine kostengünstige Methode zur Herstellung von Mikrolinsen-Arrays ist das Rundschmelzen des strukturierten...

Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter

Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
Tech-Blog
micro resist technology bietet unterschiedliche Materialsysteme für die Herstellung optischer Wellenleiter an...

Dreidimensionale optische Strukturen - Grauton-Lithographie

Dreidimensionale optische Strukturen
Tech-Blog
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie...

Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen

Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Tech-Blog
Wir bieten Lithografie-Dienstleistungen und Anwendungsentwicklungen, um unsere Kunden bei der Suche nach maßgeschneiderten...

Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)

Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Tech-Blog
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen...

Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)

Herstellung von 3D Strukturen mittels Zwei-Photon-Polymerisation
Tech-Blog
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung individueller 3D Strukturen ist die 2-Photonen-
Polymerisation (2PP)...

Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie

Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Tech-Blog
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen...

Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400

Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Tech-Blog
Tief-UV Lithographie unter Verwendung des hochempfindlichen Negativresists ma-N 2400 ist eine Methode für die Herstellung...

Grayscale positive photoresist

Grayscale positive photoresist
Publikationen
Grayscale lithography creates 3D film profiles with gradually varying thickness1, see Fig.1. The grayscale lithography is especially...

SPIE Advanced Lithography

SPIE Advanced Lithography
Konferenz
We are pleased to announce our participation in the SPIE Advanced Lithography 2020 in San Jose, California...

Unsere Händler

Die micro resist technology GmbH ist stolz Ihnen ein weltweites Händlernetzwerk bieten zu können. 

© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100