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News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technology informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich unserer Teilnahme an Workshops und Konferenzen, neuer Forschungsprojekte und wichtiger Neuigkeiten zum Unternehmen. Beachten Sie den gesonderten Tech-Blog, wo wir regelmäßig über technische Novitäten und Innovationen informieren.

In this area you can find out about the latest news from micro resist technology. We will keep you informed about our participation in workshops and conferences, new research projects and important news about the company. Note the separate tech blog, where we regularly provide information about technical novelties and innovations.

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Information
Join the new mrt webinar series and meet the experts
Join the new mrt webinar series and meet the experts
Starting from April 2021 micro resist technology will offer a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
29. März 2021
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Information
Special issue “Nanoimprint Lithography Technology and Applications”
Special issue “Nanoimprint Lithography Technology and Applications”
We are pleased to announce that our work on a “novel concept of Micro Patterned Micro Titer Plates Fabricated via UV-NIL for...
28. März 2021
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Konferenz
EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics
EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics
We will participate in EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics on Monday, 3 May 2021
12. März 2021
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Konferenz
Online Symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application”
Online Symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application”
We are pleased to announce our participation in the online symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application” organized by the TH Wildau on the 9th of March.
25. Februar 2021
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Konferenz
NNCI Advanced Lithography UnSymposium @ Stanford University
NNCI Advanced Lithography UnSymposium @ Stanford University
We proudly announce our participation with two presentations in the virtual, interactive online event organized by our partners Raith and Heidelberg Instruments...
14. Januar 2021
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Konferenz
Virtual Exhibition and Conference PHOTONICS+
Virtual Exhibition and Conference PHOTONICS+
Committed to develop the most efficient and effective photonics virtual exhibition and conference, our partner EPIC – European Photonics Industry consortium – is organizing...
20. Dezember 2020
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Information
Gruß zum Jahresabschluss
Wichtige Information
Sehr geehrte Kunden, Partner und Freunde, ein ungewöhnliches Jahr geht zu Ende!
4. Dezember 2020
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Information
Interview zum EU-Projekt NextGenMicrofluidics
Interview zum EU-Projekt NextGenMicrofluidics
Wir freuen uns sehr über unseren Beitrag im aktuellen Cluster Newsletter für optische Technologien und Mikrosystemtechnik...
3. Dezember 2020
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Konferenz
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“...
2. Dezember 2020
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Information
3D Printing of Optical Components
3D Printing of Optical Components
In einem Beitrag zum Buch "3D Printing of Optical Components" stellen wir die Chemie unserer Hybridpolymere sowie...
26. November 2020
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Information
Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Wir freuen uns sehr, einer der größten Forschungsinitiativen beigetreten zu sein, die jemals von der Europäischen Kommission finanziert wurden...
18. Oktober 2020
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Digitale HoliFAB Konferenz
Digitale HoliFAB Konferenz
Als Partner der Projektkonsortiums freuen wir uns die erste digitale HoliFAB Konferenz am 5. November 2020 anzukündigen...
18. Oktober 2020
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Information
Operatives Update
Aktuelle Informationen zu COVID-19
Während der weltweiten Pandemie von COVID-19 leisten wir bei der micro resist technology GmbH unseren notwendigen Beitrag...
16. August 2020
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Partnerschaft mit DJ MicroLaminates
Partnerschaft mit DJ MicroLaminates
micro resist technology GmbH und DJ MicroLaminates bekräftigen ihre langjährige Partnerschaft...
14. Juli 2020
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Tech-Blog
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer...
14. Juli 2020
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Tech-Blog
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel...
30. Juni 2020
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Tech-Blog
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Eine kostengünstige Methode zur Herstellung von Mikrolinsen-Arrays ist das Rundschmelzen des strukturierten...
23. Juni 2020
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Tech-Blog
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
micro resist technology bietet unterschiedliche Materialsysteme für die Herstellung optischer Wellenleiter an...
23. Juni 2020
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Tech-Blog
Dreidimensionale optische Strukturen
Dreidimensionale optische Strukturen - Grauton-Lithographie
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie...
23. Juni 2020
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Tech-Blog
Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Wir bieten Lithografie-Dienstleistungen und Anwendungsentwicklungen, um unsere Kunden bei der Suche nach maßgeschneiderten...
18. Juni 2020
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Tech-Blog
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen...
18. Juni 2020
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Tech-Blog
Herstellung von 3D Strukturen mittels Zwei-Photon-Polymerisation
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung individueller 3D Strukturen ist die 2-Photonen-
Polymerisation (2PP)...
18. Juni 2020
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Tech-Blog
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen...
18. Juni 2020
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Tech-Blog
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Tief-UV Lithographie unter Verwendung des hochempfindlichen Negativresists ma-N 2400 ist eine Methode für die Herstellung...
18. Juni 2020
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Publikationen
Grayscale positive photoresist
Grayscale positive photoresist
Grayscale lithography creates 3D film profiles with gradually varying thickness1, see Fig.1. The grayscale lithography is especially...
11. Mai 2020
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© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100