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News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technology informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich unserer Teilnahme an Workshops und Konferenzen, neuer Forschungsprojekte und wichtiger Neuigkeiten zum Unternehmen. Beachten Sie den gesonderten Tech-Blog, wo wir regelmäßig über technische Novitäten und Innovationen informieren.

In this area you can find out about the latest news from micro resist technology. We will keep you informed about our participation in workshops and conferences, new research projects and important news about the company. Note the separate tech blog, where we regularly provide information about technical novelties and innovations.

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Information
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Display Innovation Day on December 11th, 2024
Among many other exciting contributions, our expert Dr. Maria Russew will give a presentation on “Highly reliable hybrid polymer materials for micro-optical applications, photonics and beyond”
3. Dezember 2024
Information
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Join the mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
1. November 2024
Information
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Workshop "Beams & More" in Stuttgart
Our expert Dr. Alexander Plucinski will be there with his presentation on “Innovative Photopolymers Advancing Micro- and Nano Patterning for Photonic Applications”
31. Oktober 2024
Information
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Semicon Europa 2024, November 12 - 15
We would like to welcome you - customers and partners - again at SEMICON Europa hall C2, booth 746
10. Oktober 2024
Information
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PolyChrome Workshop – Berlin Adlershof – Curie-Cabinet – October 9th, 2024
We will contribute to this workshop with an expert presentation by Dr. Maria Russew about “Hybrid Polymers for Optical Applications and Beyond”.
25. September 2024
Information
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MNE 2024 - September 16th - 19th, 2024
MRT will be attending MNE again this year - the 50th edition of the International Micro and Nano Engineering Conference from September 16th – 19th, 2024 in Montpellier, France
11. September 2024
Information
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Technical Workshop - Montpellier - September 16th, 2024
In the run-up to the MNE conference in Montpellier, the Technical Workshop on Laser Lithography & Direct Write is taking place - organized by Heidelberg Instruments, GenISys, and micro resist technology.
10. September 2024
Information
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NanoKorea 2024 – July 3rd – 5th, 2024
We are proud to announce that we will be attending NanoKorea at KINTEX Exhibition Center I in the first week of July.
22. Juni 2024
Information
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NNT (2024) NIL ID – Save-the-date
This year, 2024, we will join forces and merge the NNT 2024, the 23rd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies, and the European NIL Industrial Day 2024, the 14th summit focusing on industrial applications of Nanoimprint Lithography, to be held as a united conference on June 24-27, 2024, at ”The Medicon Village” in Lund, Sweden.
21. Juni 2024
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BioChip in Berlin
We will be presenting at BioChip in Berlin this year. Look forward with us to Dr. Maria Russew contribution. She will be speaking about one of our important research projects on Wednesday, May 29 at 14:25 p.m. on the topic: "PolyChrome – Photonics for sensing applications".
28. Mai 2024
Konferenz
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SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
We would like to proudly inform you that we will be at the SPIE-AL in San Jose California again this year. You are welcome to meet our experts in the technical exhibition at booth #538.
13. Februar 2024
Information
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Besuch der Berliner Wirtschaftssenatorin
Wir beginnen unser neues Jahr gleich mit einem Highlight! Franziska Giffey – Berliner Wirtschaftssenatorin war am 8. Januar 2024 bei uns zu Gast im Rahmen der „Made in Berlin“-Tour des Jahres 2024...
11. Januar 2024
Information
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Semicon Europa 2023, November 14 - 17
We look forward to welcoming you - customers and partners - again at the SEMICON in Munich...
11. Oktober 2023
Information
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Workshop PolyChrome Berlin
We are pleased to announce our participation in the workshop PolyChrome Berlin on November 2nd 2023
11. Oktober 2023
Information
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Nano-Micro-Lithography Symposium
Nano-Micro-Lithography Symposium Save the date: November 6th/7th, 2023
11. Oktober 2023
information
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NNT 2023, October 9 – 11
We are looking forward to our participation in the NNT 2023 conference and exhibition. Taking place in Boston (USA) from October 9th – 11th...
4. Oktober 2023
Information
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MNE - Micro and Nano Engineering Conference 25. - 28.09.2023 in Berlin
We are pleased to inform you that we - micro resist technology GmbH - are the local conference organizers of this year’s MNE 2023 ...
14. Juni 2023
Information
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Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication
Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication...
14. Juni 2023
Information
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26. Weltleitmesse und Kongress für Komponenten, Systeme und Anwendungen der Photonik 27.–30. Juni 2023 | Messe München
We would like to announce that this year we will also be exhibiting at Laser World of Photonics in Munich.
14. Juni 2023
Information
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NIL industrialday 2023
Leading NIL experts will once again meet at the 2023 NIL Industrial Day...
25. Februar 2023
Konferenz
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SPIE Advanced Lithography + Patterning 26 February - 2 March 2023
We are very pleased that we will resume our international trade fair trips in 2023!
24. Februar 2023
Information
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micro resist technology seit 30 Jahren erfolgreich am Markt
Der 17. Februar 2023 war für die micro resist technology GmbH ein ganz besonderes Datum...
24. Februar 2023
Information
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SEMICON EUROPA, 15. - 18. November 2022 in München
Wir freuen uns Sie auch in diesem Jahr wieder auf unserem Messestand begrüßen zu können...
7. Oktober 2022
Information
NMLS22
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
Joint Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography...
7. Oktober 2022
Information
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Workshop - Maskless Laser Lithography for Advanced Micro- and Nanofabrication, September 19
We especially invite you to the talk of our expert Dr. Arne Schleunitz on “Cross-functional photoresists and photopolymers enhancing micro- and nanofabrication”...
14. September 2022
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen