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News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technologie informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich neuer Forschungsprojekte, Konferenzen, sowie veröffentlichen wir regelmäßig unseren Tech-Blog.

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Konferenz
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“...
03.12.2020
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Information
Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Wir freuen uns sehr, einer der größten Forschungsinitiativen beigetreten zu sein, die jemals von der Europäischen Kommission finanziert wurden...
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Digitale HoliFAB Konferenz
Digitale HoliFAB Konferenz
Als Partner der Projektkonsortiums freuen wir uns die erste digitale HoliFAB Konferenz am 5. November 2020 anzukündigen...
05.11.2020
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Information
Operatives Update
Aktuelle Informationen zu COVID-19
Während der weltweiten Pandemie von COVID-19 leisten wir bei der micro resist technology GmbH unseren notwendigen Beitrag...
Berlin, 02.11.2020
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Information
Partnerschaft mit DJ MicroLaminates
Partnerschaft mit DJ MicroLaminates
micro resist technology GmbH und DJ MicroLaminates bekräftigen ihre langjährige Partnerschaft...
Juli 2020
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Tech-Blog
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer...
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Tech-Blog
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel...
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Tech-Blog
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Eine kostengünstige Methode zur Herstellung von Mikrolinsen-Arrays ist das Rundschmelzen des strukturierten...
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Tech-Blog
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
micro resist technology bietet unterschiedliche Materialsysteme für die Herstellung optischer Wellenleiter an...
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Tech-Blog
Dreidimensionale optische Strukturen
Dreidimensionale optische Strukturen - Grauton-Lithographie
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie...
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Tech-Blog
Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Wir bieten Lithografie-Dienstleistungen und Anwendungsentwicklungen, um unsere Kunden bei der Suche nach maßgeschneiderten...
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Tech-Blog
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen...
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Tech-Blog
Herstellung von 3D Strukturen mittels Zwei-Photon-Polymerisation
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung individueller 3D Strukturen ist die 2-Photonen-
Polymerisation (2PP)...
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Tech-Blog
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen...
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Tech-Blog
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Tief-UV Lithographie unter Verwendung des hochempfindlichen Negativresists ma-N 2400 ist eine Methode für die Herstellung...
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Publikationen
Grayscale positive photoresist
Grayscale positive photoresist
Grayscale lithography creates 3D film profiles with gradually varying thickness1, see Fig.1. The grayscale lithography is especially...
11.05.2020
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Konferenz
SPIE Advanced Lithography
SPIE Advanced Lithography
We are pleased to announce our participation in the SPIE Advanced Lithography 2020 in San Jose, California...
23 - 27 February 2020
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Konferenz
Symposium on Nanolithography
Symposium on Nanolithography
Symposium on Nanolithography ~ 18./19.02.2020 in Stuttgart - As in the last years we would like to invite you...
18./19.02.2020
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Konferenz
SPIE Photonics West 2020
SPIE Photonics West 2020
We are pleased to announce our participation in the SPIE Photonics West 2020 in San Francisco, California 01-06 February.
01 - 06 February 2020
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Konferenz
SEMICON EUROPA 2019
SEMICON EUROPA 2019
In November from 12th to 15th the Semicon Europe Exhibition will take place in Munich, Germany...
12 - 15 November 2019
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Resist Alliance
MicroChem Corp. (MCC) changed its name
MicroChem Corp. (MCC) changed its name
In September 2019 the 45th International Conference on Micro & Nano Engineering will be held in Rhodes Greece...
September 23. – 26. 2019
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Konferenz
TRANSDUCERS 2019 in Berlin – Germany
TRANSDUCERS 2019 in Berlin - Germany
Proudly we announce our participation at TRANSDUCERS 2019 – EUROSENSORS XXXIII in Berlin
23 - 27 June 2019
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Konferenz
ENRIS • Enschede NL
ENRIS • Enschede NL
The European Nanofabrication Research Infrastructure Symposium (ENRIS) 2019 is the 2nd edition of the...
17 - 18 June 2019
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Konferenz
OSA – Optical Design and Fabrication Congress
OSA - Optical Design and Fabrication Congress
We are pleased to announce our participation in the 2019 Optical Design and Fabrication Congress, to be held at OSA Headquarters...
10 - 12. June 2019
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Konferenz
20th CMi Annual Review Meeting
20th CMi Annual Review Meeting
We are pleased to announce our participation in the 20th CMi Annual Review Meeting on Tuesday May 7th, 2019 at the EPFL in Lausanne...
Tuesday May 7th, 2019
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© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100