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News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technology informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich unserer Teilnahme an Workshops und Konferenzen, neuer Forschungsprojekte und wichtiger Neuigkeiten zum Unternehmen. Beachten Sie den gesonderten Tech-Blog, wo wir regelmäßig über technische Novitäten und Innovationen informieren.

In this area you can find out about the latest news from micro resist technology. We will keep you informed about our participation in workshops and conferences, new research projects and important news about the company. Note the separate tech blog, where we regularly provide information about technical novelties and innovations.

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Join the mrt webinar series and meet the experts
Join the mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
14. September 2022
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Workshop – Maskless Laser Lithography for Advanced Micro- and Nanofabrication, September 19
Workshop - Maskless Laser Lithography for Advanced Micro- and Nanofabrication, September 19
We especially invite you to the talk of our expert Dr. Arne Schleunitz on “Cross-functional photoresists and photopolymers enhancing micro- and nanofabrication”...
14. September 2022
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MRT is Gold Sponsor @ MNE 2022
MRT is Gold Sponsor @ MNE 2022
We proudly announce our Gold Sponsorship for the MNE 2022, the 48th International Conference on Micro and Nano Engineering focusing on innovations in micro- and nano-fabrication as well as applications of the fabricated micro/nanostructures, devices and microsystems.
14. September 2022
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
Joint Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography...
14. September 2022
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Please meet us at the Optonet Workshop, September 14-15
Please meet us at the Optonet Workshop, September 14-15
“Ultra Precision Manufacturing of Aspheres and Freeforms”...
8. September 2022
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Optics and Photonics Days from September 6th – 8th in Tampere (Finland).
Optics and Photonics Days from September 6th - 8th in Tampere (Finland).
Proudly we would like to inform you that we will be at the Optics and Photonics Days ...
31. August 2022
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We are sponsor at the Swiss ePrint in Buchs (Switzerland)! September 5 – 6, 2022
We are sponsor at the Swiss ePrint in Buchs (Switzerland)! September 5 – 6, 2022
There you will have the opportunity to meet and talk with our experts at the booth...
31. August 2022
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Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands…
Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands...
Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands. Auf Basis einer wissenschaftlich fundierten Mitarbeiter- und Managementbefragung zeichnet das Zentrum für Arbeitgeberattraktivität (zeag GmbH) alljährlich die attraktivsten Arbeitgeber des deutschen Mittelstandes mit dem „Top Job“-Siegel aus. Besonders überzeugte unser Unternehmen durch gutes Mitarbeiterfeedback im Bereich Führung & Vision.
14. Juli 2022
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Graphene 2022, July 5 – 8
Graphene 2022, July 5 – 8
We are pleased to announce our participation at Graphene 2022 in Aachen. Our experts will also be there for you online.
27. Juni 2022
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NIL Industrialday June 14th – 15th 2022 – The leading Conference for Nanoimprint Lithography and its Applications
NIL Industrialday June 14th – 15th 2022 - The leading Conference for Nanoimprint Lithography and its Applications
We are happy to announce that the next NILIndustrial Day 2022 will take place on June 14th – 15th 2022 as a fully remote summit...
9. Juni 2022
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May 09, 2022 – Technical Workshop (in-person) on Maskless Laser Lithography and NanoFrazor® Patterning for Advanced 2D and 3D Biomedical Devices
May 09, 2022 - Technical Workshop (in-person) on Maskless Laser Lithography and NanoFrazor® Patterning for Advanced 2D and 3D Biomedical Devices
Heidelberg Instruments and micro resist technology GmbH are jointly organizing this technical workshop focusing on systems and applications in biomedical technology...
12. April 2022
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May 05, 2022 – IVAM High-Tech Summit 2022 – Solutions for Sustainability
May 05, 2022 - IVAM High-Tech Summit 2022 - Solutions for Sustainability
We will participate in this year’s IVAM High-Tech Summit as business partner...
12. April 2022
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Geschäftsführerin Gabi Grützner mit dem Bundesverdienstkreuz ausgezeichnet
Geschäftsführerin Gabi Grützner mit dem Bundesverdienstkreuz ausgezeichnet
Unsere Gründerin und geschäftsführende Gesellschafterin Frau Gabi Grützner hat am 17.02.2022 aus den Händen von Stephan Schwarz, Senator für Wirtschaft, Energie und Betriebe das Bundesverdienstkreuz am Bande erhalten.
21. Februar 2022
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White Paper: Advancing greyscale lithography and pattern transfer of 2.5D structures using maP 1200G resist series
White Paper: Advancing greyscale lithography and pattern transfer of 2.5D structures using maP 1200G resist series
In unserem zweiten White Paper konzentrieren wir uns auf die Graustufenlithografie...
19. Januar 2022
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SEMICON EUROPA, 16. – 19. November 2021 München
SEMICON EUROPA, 16. - 19. November 2021 München
Wir sind auf der SEMICON EUROPA in München!
12. Oktober 2021
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
Join us for the Symposium, hosted on gather.town. ...
12. Oktober 2021
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NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
We are happy to present our recent R&D activities virtually on the upcoming 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies...
12. Oktober 2021
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MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
We are more than happy to present our recent R&D activities again far abroad in Japan ...
27. September 2021
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Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
We gladly announce our participation in the upcoming Photonics Days Berlin Brandenburg ...
27. September 2021
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MNE Micro and Nano Engineering Conference – Turin, Italy – September 20th – 23rd, 2021
MNE Micro and Nano Engineering Conference - Turin, Italy - September 20th - 23rd, 2021
The MNE is back this year and we will be again part of it! Visit us at our virtual booth in the expo area to learn about new material developments and new releases...
19. August 2021
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Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication – September 20 th, 2021
Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication - September 20 th, 2021
We are pleased that the series of events “Maskless Laser Lithography and Direct Writing for Nano- and Microfabrication” will be continued within the framework of the MNE conference...
19. August 2021
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, June 30th, 2021
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, June 30th, 2021
An dieser Stelle möchten wir Sie auf die nächste Ausgabe des „Nano-Micro-Lithography Symposium“ aufmerksam machen...
16. Juni 2021
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virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021
virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021
We completed our preparations for this year’s virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021 and are now looking forward to an unique selection of exciting presentations.
16. Juni 2021
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White Paper: Cyclic Olefin Copolymer (COC) Formulation for the Fabrication of Sub-Micron Thin Films
White Paper: Cyclic Olefin Copolymer (COC) Formulation for the Fabrication of Sub-Micron Thin Films
We are very happy to announce the start of our new white paper series...
27. Mai 2021
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Konferenz
EIPBN Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
EIPBN Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
We are pleased to announce our participation in the virtual EIPBN conference on...
23. April 2021
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.