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News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technology informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich unserer Teilnahme an Workshops und Konferenzen, neuer Forschungsprojekte und wichtiger Neuigkeiten zum Unternehmen. Beachten Sie den gesonderten Tech-Blog, wo wir regelmäßig über technische Novitäten und Innovationen informieren.

In this area you can find out about the latest news from micro resist technology. We will keep you informed about our participation in workshops and conferences, new research projects and important news about the company. Note the separate tech blog, where we regularly provide information about technical novelties and innovations.

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Grüße zum Jahresende und wichtige Informationen
Grüße zum Jahresende und wichtige Informationen
Sehr geehrte Kunden, Partner und Freunde, gemeinsam haben wir ein ereignisreiches Jahr in ungewöhnlichen Zeiten verlebt! ...
3. Dezember 2021
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Join the new mrt webinar series and meet the experts
Join the new mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
12. Oktober 2021
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SEMICON EUROPA, 16. – 19. November 2021 München
SEMICON EUROPA, 16. - 19. November 2021 München
Wir sind auf der SEMICON EUROPA in München!
12. Oktober 2021
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
Join us for the Symposium, hosted on gather.town. ...
12. Oktober 2021
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NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
We are happy to present our recent R&D activities virtually on the upcoming 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies...
12. Oktober 2021
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MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
We are more than happy to present our recent R&D activities again far abroad in Japan ...
27. September 2021
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Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
We gladly announce our participation in the upcoming Photonics Days Berlin Brandenburg ...
27. September 2021
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MNE Micro and Nano Engineering Conference – Turin, Italy – September 20th – 23rd, 2021
MNE Micro and Nano Engineering Conference - Turin, Italy - September 20th - 23rd, 2021
The MNE is back this year and we will be again part of it! Visit us at our virtual booth in the expo area to learn about new material developments and new releases...
19. August 2021
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Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication – September 20 th, 2021
Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication - September 20 th, 2021
We are pleased that the series of events “Maskless Laser Lithography and Direct Writing for Nano- and Microfabrication” will be continued within the framework of the MNE conference...
19. August 2021
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, June 30th, 2021
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, June 30th, 2021
An dieser Stelle möchten wir Sie auf die nächste Ausgabe des „Nano-Micro-Lithography Symposium“ aufmerksam machen...
16. Juni 2021
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virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021
virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021
We completed our preparations for this year’s virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021 and are now looking forward to an unique selection of exciting presentations.
16. Juni 2021
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White Paper: Cyclic Olefin Copolymer (COC) Formulation for the Fabrication of Sub-Micron Thin Films
White Paper: Cyclic Olefin Copolymer (COC) Formulation for the Fabrication of Sub-Micron Thin Films
We are very happy to announce the start of our new white paper series...
27. Mai 2021
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Konferenz
EIPBN Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
EIPBN Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
We are pleased to announce our participation in the virtual EIPBN conference on...
23. April 2021
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Special issue “Nanoimprint Lithography Technology and Applications”
Special issue “Nanoimprint Lithography Technology and Applications”
We are pleased to announce that our work on a “novel concept of Micro Patterned Micro Titer Plates Fabricated via UV-NIL for...
28. März 2021
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Konferenz
EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics
EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics
We will participate in EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics on Monday, 3 May 2021
12. März 2021
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Konferenz
Online Symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application”
Online Symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application”
We are pleased to announce our participation in the online symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application” organized by the TH Wildau on the 9th of March.
25. Februar 2021
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Konferenz
NNCI Advanced Lithography UnSymposium @ Stanford University
NNCI Advanced Lithography UnSymposium @ Stanford University
We proudly announce our participation with two presentations in the virtual, interactive online event organized by our partners Raith and Heidelberg Instruments...
14. Januar 2021
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Konferenz
Virtual Exhibition and Conference PHOTONICS+
Virtual Exhibition and Conference PHOTONICS+
Committed to develop the most efficient and effective photonics virtual exhibition and conference, our partner EPIC – European Photonics Industry consortium – is organizing...
20. Dezember 2020
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Information
Gruß zum Jahresabschluss
Wichtige Information
Sehr geehrte Kunden, Partner und Freunde, ein ungewöhnliches Jahr geht zu Ende!
4. Dezember 2020
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Information
Interview zum EU-Projekt NextGenMicrofluidics
Interview zum EU-Projekt NextGenMicrofluidics
Wir freuen uns sehr über unseren Beitrag im aktuellen Cluster Newsletter für optische Technologien und Mikrosystemtechnik...
3. Dezember 2020
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Konferenz
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“...
2. Dezember 2020
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3D Printing of Optical Components
3D Printing of Optical Components
In einem Beitrag zum Buch "3D Printing of Optical Components" stellen wir die Chemie unserer Hybridpolymere sowie...
26. November 2020
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Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Wir freuen uns sehr, einer der größten Forschungsinitiativen beigetreten zu sein, die jemals von der Europäischen Kommission finanziert wurden...
18. Oktober 2020
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Digitale HoliFAB Konferenz
Digitale HoliFAB Konferenz
Als Partner der Projektkonsortiums freuen wir uns die erste digitale HoliFAB Konferenz am 5. November 2020 anzukündigen...
18. Oktober 2020
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Operatives Update
Aktuelle Informationen zu COVID-19
Während der weltweiten Pandemie von COVID-19 leisten wir bei der micro resist technology GmbH unseren notwendigen Beitrag...
16. August 2020
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.