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InkEpo Serie
Negativ-Photoresiste, Inkjet Materialien
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InkEpo-Serie - UV härtbares Material für das Inkjetprinten
Merkmale/ Eigenschaften
  • UV-härtbare, lösemittelbasierte Tinten
  • Geringe Viskositäten
  • Kompatibel zu Standard-Druckköpfen
  • Ausgezeichnete thermische, mechanische und chemische Stabilität der vernetzten Strukturen
  • Hohe Transparenz im nahen UV und Vis
Anwendungen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsen-Arrays
  • Wellenleiter und Mikrofluidik
  • Abstandshalter und Schutzschichten
  • Material zum Permanentbonden
  • Prozessierbar auf großen Substraten
Material Viskosität

[mPas]

 Sauerstoffinhibierung Brechungsindex (589 nm, ausgehärtetes Material) Thermische Stabilität (nach Aushärtung) Anwendungsgebiete
InkEpo Serie 5 ± 0.3

8 ± 0.5

12 ± 1

25 ± 1

 Nein 1.555 bis zu 180 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen, Wellenleiter)
Alternative Inkjet Materialien:
InkOrmo Serie 7 ± 1

12 ± 1.5

18 ± 2

 Nein 1.517 – 1.520 bis zu 270 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen)
mr-UVCur26SF 15 ± 2

(lösungsmittelfrei)

 Ja 1.518 bis zu 180 °C Ätzmaske, Step & Repeat NIL-Prozesse, large-area structuring of flexible substrates

Empfohlene Prozesschemikalien:

Verdünner: kein Verdünner vorhanden
Entwickler: nicht benötigt
Entferner: mr-Rem 700 (NMP & NEP frei), mr-Rem 500 (NMP frei), O2-Plasma

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InkOrmo Serie
Hybridpolymere, Inkjet Materialien
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Für Drop-on-Demand Ink-Jet-Printing
InkOrmo verfügt nach dem Aushärten über glasähnliche Materialeigenschaften und ist durch seine geringe Viskosität besonders geeignet zur Mikrolinsen-Herstellung mittels Ink-Jet-Printing
Merkmale
  • Hervorragende thermische, mechanische und chemische Stabilität der ausgehärteten Strukturen
  • Hohe Transparenz vom sichtbaren Spektrum bis zum Nah-UV (350 nm)
  • Kompatibel zu vielen Standard-Druckköpfen
Anwendungen
  • Mikrolinsen und Mikrolinsenarrays
  • Wellenleiter und mikrofluidische Bauteile
  • Abstandshalter und Schutzschichten
  • Großflächige Substratverarbeitung
Material Viskosität

[mPas]

 Sauerstoffinhibierung Brechungsindex (589 nm, ausgehärtetes Material) Thermische Stabilität (nach Aushärtung) Anwendungsgebiete
InkOrmo Serie 7 ± 1

12 ± 1.5

18 ± 2

 Nein 1.517 – 1.520 bis zu 270 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen)
Alternative Inkjet Materialien:
InkEpo Serie 5 ± 0.3

8 ± 0.5

12 ± 1

25 ± 1

 Nein 1.555 bis zu 180 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen, Wellenleiter)
mr-UVCur26SF 15 ± 2

(lösungsmittelfrei)

 Ja 1.518 bis zu 180 °C Ätzmaske, Step & Repeat NIL-Prozesse, large-area structuring of flexible substrates
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mr-UVCur26SF
Nanoimprint Resiste, Inkjet Materialien
Trockenätzmaske, permanente Nanostrukturen
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Photo-vernetzbarer NIL-Resist
mr-UVCur26SF ist ein rein organischer und lösemittelfreier Photo-NIL-Resist entwickelt für die Beschichtung mittels Inkjet-Verfahren. Seine niedrige Viskosität und sehr schnelle Härtung ermöglichen den Einsatz in kontinulierlichen Rolle-zu-Rolle-NIL-Prozessen (R2R-NIL).
Merkmale
  • Beschichtung mittels Inkjet-Dispensierung durch die niedrige Viskosität (15 mPas), beispielsweise für Step-and-Repeat-Verfahren
  • Kein Prebake nach der Substratbeschichtung durch den Verzicht auf Lösemittel
  • Sehr schnelle Härtung in kontinuierlichen Rolle-zu-Rolle-NIL-Prozessen mit hohem Durchsatz, Rollengeschwindigkeit bis zu 30 m/min  erreicht
  • Gute Haftung auf PC- und PET-Substraten
  • Hervorragende Ätzstabilität für Strukturübertragungen in Plasmaätzprozessen
  • Rückstandsfrei entfernbar mit Sauerstoff-Plasma
Anwendungen
  • Hartmaske für die Strukturübertragung (mittels Trockenätzen)
  • Applikation von Nanostrukturen auf Polymerfolien
  • Herstellung von Nanostrukturen für z.B.
    • Nano-optische Bauteile, SOEs
    • Organische Elektronik (OLED, OPV, OTFT)
    • Mikroelektronische Bauteile
    • LEDs, photonische Kristalle
Material Viskosität

[mPas]

 Sauerstoffinhibierung Brechungsindex (589 nm, ausgehärtetes Material) Thermische Stabilität (nach Aushärtung) Anwendungsgebiete
mr-UVCur26SF 15 ± 2

(lösungsmittelfrei)

 Ja 1.518 bis zu 180 °C Ätzmaske, Step & Repeat NIL-Prozesse, large-area structuring of flexible substrates
Alternative Inkjet Materialien:
InkEpo Serie 5 ± 0.3

8 ± 0.5

12 ± 1

25 ± 1

 Nein 1.555 bis zu 180 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen, Wellenleiter)
InkOrmo Serie 7 ± 1

12 ± 1.5

18 ± 2

 Nein 1.517 – 1.520 bis zu 270 °C Permanente optische Anwendungen (z. B. Mikrolinsen)
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Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen
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Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen
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Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

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Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

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Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit
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Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.