- Lösemittelbasierter Entferner für Photoresistserien: ma-P 1200, ma-P 1200 G, ma-P 1200 LIL, ma-N 2400, ma-N 400, ma-N 1400, mr-PL, EpoCore, EpoClad, mr-DWL, mr-EBL 6000, mr-UVL 6000, SU-8, SU-8 2000, SU-8 3000, SU-8 TF 6000, PMMA, LOR, PMGI
- NMP- & NEP-frei, DMSO basiert, pH ~ 8
- Tauch-, Immersions- und Sprühentwicklung