Element 2
+49 30 641 670 100
Element 1
info@microresist.de
mr-NIL200 Serie
Ansprechpartner
Dr. Manuel Thesen
E-Mail: m.thesen@microresist.de
Telefon: +49 30 64 16 70 100
Anja Hinz
E-Mail: a.hinz@microresist.de
Telefon: +49 30 64 16 70 100
Photo-vernetzbarer NIL-Resist
mr-NIL200 ist ein photo-vernetzbarer NIL-Resist der speziell für harte und nicht-permeable Stempelmaterialien entwickelt wurde. Typisches Anwendungsfeld ist der Einsatz als Ätzmaske für den Strukturtransfer bei z.B. photonischen Anwendungen. Für den Einsatz von mr-NIL200 brauchen Sie keinen zusätzlichen Haftvermittler oder Primer.
Merkmale
  • Kein zusätzlicher Haftvermittler oder Primer für die gängigsten Substratoberflächen notwendig (Si, SiO2, Al, Saphir, Cu, unterschiedliche organische Unterschichten wie LOR, UL1, UL3)
  • Härtet vollständig in Gegenwart von Luftsauerstoff
  • Die geringe Viskosität ermöglicht schnelle Strukturfüllung und minimiert mögliche Imprintdefekte in Form von Lufteinschlüssen
Anwendungsbeispiele

Step-and-repeat nanoimprint on pre-spin coated film for the fabrication of integrated optical devices
G Calafiore et al., J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 14(3), 033506 Link zum Abstract

Efficient fabrication of photonic and optical patterns by imprinting the tailored photo-curable NIL resist «mr-NIL200»
M Messerschmidt et al., Poster, International Conference on Micro & Nano Engineering MNE2018, Copenhagen Link zum Poster

 Empfohlene Prozessparameter

Verfahrensschritt Prozessparameter
Schleuderbeschichtung 3000 rpm for 30 s
Prebake-Bedingungen 60 °C für 180 s
Prägetemperatur Raumtemperatur
Prägedruck > 100 mbar
Belichtungsdosis > 1J cm-2
Belichtungseinheit Option 1: broad band
Option 2: LED (365-405 nm)
Verdünner (Thinner) mr-T 1078
Haftvermittler (Primer) Nicht erforderlich
(mr-APS1 bei Bedarf für mr-NIL200 Schichtdicken > 300nm)

 Schichtdicken und verfügbare Versandeinheiten

Spezifikation Schichtdicken und Versandeinheiten
Unsere ready-to-use-solutions für Standardschichtdicken (3000 rpm) mr-NIL200-100 nm
mr-NIL200-200 nm
mr-NIL200-300 nm
Maßgeschneiderte Schichtdicken nach Bedarf möglich bis zu (3000 rpm) 1 µm
Verfügbare Abfüllungen 250 ml
500 ml
Größere Gebinde nach Rückfrage

Angebotsanfrage

Auswahl zurücksetzen

Kontaktieren Sie uns.

Pflichtfelder sind mit einem * gekennzeichnet.

© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH

Element 32
0

Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100