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OrmoPrime20
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Anwendung

Haftvermittler für die Hybridpolymere

Charakterisierung:

- Haftvermittler zur Erhöhung der Haftung von Hybridpolymeren zu unterschiedlichen Substraten

- Empfohlen für verschiedene Substrate wie z. B. Si, Glas, Quarz

- Gebrauchsfertige Lösung zum Spin Coaten, Beschichtung aus der Dampfphase oder Dip Coating

- Schichtdicke < 20 nm

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Hybridpolymere
Jetzt neu: Hybridpolymere in Kartuschen
Jetzt neu: Hybridpolymere in Kartuschen
micro resist technology GmbH freut sich unseren Kunden eine neue Gebindeart für Hybridpolymere anbieten zu können. Ab sofort sind OrmoComp®, OrmoStamp®, OrmoCore, OrmoClad und alle Produkte der OrmoClear®-Serie in 55cc Kartuschen mit Luer-Lock Anschluß erhältlich...
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Hybridpolymere
OrmoComp®, OrmoStamp®, OrmoClear®
Kartusche
Mikrooptiken
09.September 2022
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Nanoimprint
Manueller Ansatz für die Realisierung eines UV-Imprints mit mr-NIL210
Die soft UV-NIL ist eine ausgezeichnete Methode, um leicht und reproduzierbar Nanostrukturen mit einem weichen Stempel auf ein Substrat zu übertragen.
UV-NIL resist
Replication of nano patterns
soft working stamp
manual imprinting
UV-PDMS
mr-NIL210
mr-NIL212FC
24. März 2022
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Nanoimprint, Nanoimprint Resists
mr-NIL212FC – Unser neuestes Produkt für UV-Nanoimprint Lithographie
mr-NIL212FC – Unser neuestes Produkt für UV-Nanoimprint Lithographie
micro resist technology GmbH freut sich, ein neues Produkt aus dem Bereich der Materialien für die Nanoimprint Lithographie vorzustellen: mr-NIL212FC.
Nanoimprint Resist
Nanoimprint Lithographie
UV-NIL
Soft UV-NIL
Trockenätzmaske
04. März 2022
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Negativresist, Hybridpolymere
3D Mikrostrukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen mit OrmoComp® oder mr-DWL, die aufgrund ihrer Komplexität nicht mit konventionellen Lithographieverfahren herstellbar sind.
Negativresiste
Hybridpolymere
Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
3D Mikrostrukturen
Mikrofluidik und Mikro-Bio-Fluidik
Lab-On-Chip
OrmoComp
mr-DWL
11. Februar 2022
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Hybridpolymere
OrmoPrime20 – Ein neuer Haftvermittler für unsere Hybridpolymere
OrmoPrime20 – Ein neuer Haftvermittler für unsere Hybridpolymere
micro resist technology GmbH freut sich ein neues Produkt aus dem Bereich der Hybridpolymere vorzustellen: OrmoPrime20.
Haftvermittler
Hybridpolymere
Prozesschemikalien
Haftvermittler für die Hybridpolymere
OrmoPrime20
24. Januar 2022
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Nanoimprint
COC Formulierungen zur Auftragung dünner Schichten mittels Schleuderbeschichtung für Langezeitanwendungen
COC Formulierungen zur Auftragung dünner Schichten mittels Schleuderbeschichtung für Langezeitanwendungen
Die chemische Natur von Cyclo Olefin Copolymeren (COCs) bietet einzigartige Materialeigenschaften, die die spezielle Materialklasse nicht nur für die Herstellung von unterschiedlichen Spritzgussteilen, sondern auch für verschiedene Dünnschichtanwendungen attraktiv machen.
Nanoimprint Resist
Bio-Anwendungen
Lab-on-Chip
optisches Polymer
Dünnschicht-Formulierung Cycloolefin-Copolymer COC
mr-I T85
21. Januar 2022
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.