Photo-vernetzbarer NIL-Resist
mr-NIL200 ist ein photo-vernetzbarer NIL-Resist der speziell für harte und nicht-permeable Stempelmaterialien entwickelt wurde. Typisches Anwendungsfeld ist der Einsatz als Ätzmaske für den Strukturtransfer bei z.B. photonischen Anwendungen. Für den Einsatz von mr-NIL200 brauchen Sie keinen zusätzlichen Haftvermittler oder Primer.
Merkmale
- Kein zusätzlicher Haftvermittler oder Primer für die gängigsten Substratoberflächen notwendig (Si, SiO2, Al, Saphir, Cu, unterschiedliche organische Unterschichten wie LOR, UL1, UL3)
- Härtet vollständig in Gegenwart von Luftsauerstoff
- Die geringe Viskosität ermöglicht schnelle Strukturfüllung und minimiert mögliche Imprintdefekte in Form von Lufteinschlüssen
Anwendungsbeispiele
Step-and-repeat nanoimprint on pre-spin coated film for the fabrication of integrated optical devices
G Calafiore et al., J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 14(3), 033506 Link zum Abstract
Efficient fabrication of photonic and optical patterns by imprinting the tailored photo-curable NIL resist «mr-NIL200»
M Messerschmidt et al., Poster, International Conference on Micro & Nano Engineering MNE2018, Copenhagen Link zum Poster
Empfohlene Prozessparameter
Verfahrensschritt | Prozessparameter |
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Schleuderbeschichtung | 3000 rpm for 30 s |
Prebake-Bedingungen | 60 °C für 180 s |
Prägetemperatur | Raumtemperatur |
Prägedruck | > 100 mbar |
Belichtungsdosis | > 1J cm-2 |
Belichtungseinheit | Option 1: broad band Option 2: LED (365-405 nm) |
Verdünner (Thinner) | mr-T 1078 |
Haftvermittler (Primer) | Nicht erforderlich (mr-APS1 bei Bedarf für mr-NIL200 Schichtdicken > 300nm) |
Schichtdicken und verfügbare Versandeinheiten
Spezifikation | Schichtdicken und Versandeinheiten |
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Unsere ready-to-use-solutions für Standardschichtdicken (3000 rpm) | mr-NIL200-100 nm mr-NIL200-200 nm mr-NIL200-300 nm |
Maßgeschneiderte Schichtdicken nach Bedarf möglich bis zu (3000 rpm) | 1 µm |
Verfügbare Abfüllungen | 250 ml 500 ml Größere Gebinde nach Rückfrage |