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micro resist technology GmbH becomes part of the TOK Group for joint expansion into European semiconductor manufacturing and related markets
Berlin (Germany), May 5th 2025 - We are excited to announce that micro resist technology GmbH (MRT), headquartered in Berlin (Germany), has signed a formal purchase agreement with TOKYO OKHA KOGYO CO., LTD. (TOK), headquartered in Kanagawa (Japan), on 24th February 2025 to join the TOK Group through full acquisition. The signing ceremony took place at MRT in Berlin with Mrs. Gabi Grützner, Founder of MRT, and Mr. Noriaki Taneichi, Representative Director, President & Chief Executive Officer of TOK.
The strategic acquisition brings together two established photoresist developers and manufacturers as committed partners to create new corporate values through the fusion of both companies and thus further strengthen their customer-oriented business approaches. The cooperation is starting at a favorable time, as Europe becomes increasingly important as a semiconductor production location for the local user industry. TOK further expands its businesses to the semiconductor industry in Europe. MRT further intensifies its global reach of business opportunities through the worldwide presence of TOK group and making European material innovations available to an expanded list of customers and complementary fields of application and industry level.
While TOK Europe Branch will continue to be responsible for selling TOK's existing product portfolio in Europe, MRT continues its operation under its known corporate brand with no interruption towards its customers and supplying partner companies.
“It is with a view to the future of the company that I founded 32 years ago that I am handing it over to a strong strategic partner in the photoresist business. micro resist technology GmbH has been intensively involved in the research and sale of innovative photoresists and photopolymers for three decades and we have now found a strategic partner in this innovative resist business field that has been pursuing the same corporate philosophy for many decades as the world's leading materials supplier to the global semiconductor industry. We are thus combining our innovative strength with the necessary large-scale industrial experience of our partner in order to market European photoresist innovations worldwide,” says Mrs. Gabi Grützner, Founder of MRT.
“We are very pleased to welcome MRT to the TOK group. We are confident that we will be able to contribute to a sustainable future through chemistry better than ever before with a combination of MRT’s innovative technologies in electronic and optical materials and our technologies we have cultivated since our founding,” concludes Mr. Noriaki Taneichi, President of TOK.
About micro resist technology GmbH
MRT is a leading company in the development and production of innovative photoresists, polymers and photopolymers as well as complementary process chemicals for lithographic manufacturing processes in micro- and nanostructuring. The products are used in key technologies and growth markets such as microsystems technology, microelectronics, optoelectronics, micro- and nanophotonics, micro- and nanotechnology as well as the life sciences. Since its foundation in 1993 MRT has build up strong technological capabilities as a research and development-driven company with solid relationships to European customers that uses microfabrication as well as leading research institutions worldwide. The acquisition is also a decisive strategic step for the company to secure the succession of the owner.
Website: https://www.microresist.com
About TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
TOK is a renown global chemical manufacturer that provides microprocessing materials such as photoresists that play a key role in the semiconductor manufacturing process. TOK was founded as a high-purity chemical manufacturer in 1940 and entered semiconductor materials field in late 1960s, currently supplying the leading semiconductor manufacturing field utilizing the world’s most advanced microprocessing technology. As long-established photoresist manufacturer, TOK strives to contribute to the development of society. The acquisition is part of the seven key strategies set out in “tok Medium-Term Plan 2027” launched in 2025 toward the realization of tok Vision 2030.
Website: https://www.tok.co.jp/eng
Note: This announcement was published on May 5th, 2025, after all legal details have been officially confirmed.
© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH
micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.
DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.
Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.
DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.
Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.
Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren
Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)
Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.
Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.
Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.
micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.
OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436
Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie
Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie