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+49 30 641 670 100
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info@microresist.de

Datenschutzhinweise der micro resist technology GmbH - für Geschäftspartner wie Kunden oder Dienstleister

Hiermit informieren wir über die Verarbeitung personenbezogener Daten im Zusammenhang mit der Kommunikation bzw. unserer Geschäftsbeziehung. Personenbezogene Daten sind alle Daten, die auf Sie persönlich beziehbar sind, z. B. Name, Adresse oder E-Mail-Adresse. 

Wer ist für die Datenverarbeitung verantwortlich?

Verantwortlicher im Sinne des Datenschutzrechts ist die

micro resist technology GmbH

Köpenicker Str. 325

12555 Berlin

Telefon: +49 30 641670 100

Telefax: +49 30 641670 200

E-Mail: mrt@microresist.de

Wir haben einen externen Datenschutzbeauftragten für unser Unternehmen benannt. Sie erreichen diesen unter folgenden Kontaktmöglichkeiten:

Herr Maak Roberts, LEROIL Datenschutz, Holzmarktstr.25, 10243 Berlin

E-Mail: ro@leroil.de, Tel.: 030 / 549 094 97

Welche Daten von Ihnen werden von uns verarbeitet? Und zu welchen Zwecken?

Im Rahmen unserer Geschäftsbeziehung verarbeiten wir personenbezogene Daten zu folgenden Zwecken

  • Kommunikation, z. B. per E-Mail
  • Anbahnung, Begründung und Durchführung der Geschäftsbeziehung
  • Bereitstellung, Angebot und Lieferung unserer Produkte
  • Abrechnung und Zahlungsverkehr
  • Abwehr bzw. Geltendmachung von Rechtsansprüchen
  • Geschäftssteuerung und Verbesserung unserer Prozesse

In der Regel handelt es sich dabei um Kontaktdaten, Kommunikationsdaten, Abrechnungs-, Vertrags- oder Zahlungsdaten.

Auf welcher rechtlichen Grundlage basiert das?

Rechtsgrundlage für die vorbeschriebene Verarbeitung ist die zwischen uns bestehende Geschäftsbeziehung bzw. die Anbahnung einer solchen und somit Art. 6 Abs. 1 lit. b DSGVO. Insoweit die Geschäftsbeziehung mit Ihrem Arbeitgeber besteht, erfolgt die Verarbeitung zur Wahrung unseres berechtigten Interesses an der Geschäftsbeziehung und damit auf der Basis von Art. 6 Abs. 1 lit. f DSGVO.

In den übrigen vorgenannten Fällen erfolgt die Verarbeitung zur Wahrung unseres an den beschriebenen Verarbeitungen bestehenden Interesses. Rechtsgrundlage in diesen Fällen ist Art. 6 Abs. 1 lit. f DSGVO.

Soweit gesetzliche Aufbewahrungspflichten bzw. Informationspflichten vorliegen, ergibt sich die Rechtsgrundlage der Verarbeitung aus Art. 6 Abs. 1 lit. c DSGVO.

Wie lange werden die Daten gespeichert?

Soweit eine gesetzliche Aufbewahrungsfrist besteht, z. B. für steuerrelevante Unterlagen oder Geschäftsbriefe, werden die Daten bis zum Ablauf dieser Frist vorgehalten. Ansonsten prüfen wir regelmäßig, ob eine weitere Speicherung erforderlich ist, und löschen Daten, die wir nicht mehr benötigen.

Besteht eine Verpflichtung, Daten anzugeben?

Im Rahmen unserer Geschäftsbeziehung müssen Sie nur diejenigen personenbezogenen Daten bereitstellen, die für die Begründung, Durchführung und Beendigung einer Geschäftsbeziehung erforderlich sind oder zu deren Erhebung wir gesetzlich verpflichtet sind.

An welche Empfänger werden die Daten weitergegeben?

Im Rahmen der Erbringung von IT-Dienstleistungen oder der Entsorgung von Akten bzw. Datenträgern ist es nicht ausgeschlossen, dass von uns eingesetzte Auftragsverarbeiter Einsicht in personenbezogene Daten erhalten. Daten werden ansonsten nur weitergegeben, insoweit dies im Rahmen unserer Geschäftsbeziehung (z. B. zur Erfüllung unserer Dienstleistungen) oder zur Verteidigung bzw. Geltendmachung von Rechtsansprüchen erforderlich ist. Eine Datenweitergabe kann insoweit an weitere Geschäftspartner, Zahlungsdienstleister, Finanzbehörden, Gerichte, Rechtsanwälte oder Steuerberater erfolgen.

Wo werden die Daten verarbeitet?

Wir verarbeiten Daten auf Servern bei uns im Haus bzw. auf Servern unserer Dienstleister in der EU. Insoweit Daten auf Servern in den USA verarbeitet werden, erfolgt dies auf Basis des Angemessenheitsbeschlusses der EU-Kommission für ein akzeptables Datenschutzniveau.

Ihre Rechte als „Betroffene“

Sie haben das Recht auf Auskunft über Ihre von uns verarbeiteten personenbezogenen Daten.

Ferner haben Sie ein Recht auf Berichtigung oder Löschung oder auf Einschränkung der Verarbeitung Ihrer Daten, soweit Ihnen dies gesetzlich zusteht.

Ferner haben Sie ein Widerspruchsrecht gegen die Verarbeitung im Rahmen der gesetzlichen Vorgaben. Gleiches gilt für ein Recht auf Datenübertragbarkeit.

Beschwerderecht

Sie haben das Recht, sich bei einer Aufsichtsbehörde für den Datenschutz zu beschweren.

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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen