Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“ gemeinsam organisiert von den Partnern Raith, Nanoscribe, GenISys und micro resist technology zum nächsten Mal online stattfinden wird. Bitte merken Sie sich dazu schon jetzt den Termin 03.12.2020 vor. Weitere Details zur Veranstaltung finden Sie hier demnächst.
Anmeldungen sind unter folgendem Link möglich:
https://www.raith.com/events/symposia/