In unserem zweiten White Paper konzentrieren wir uns auf die Graustufenlithografie. Sie wird zur Herstellung komplexer 2,5D- und Freiform-Mikrostrukturen in Photoresisten eingesetzt. Die so erhaltenen Strukturen dienen als Master bzw. Template für verschiedene Methoden der Strukturübertragung in Materialien für Permanent-Anwendungen.
In diesem Beitrag beschreiben wir die chemischen Hintergründe und Verarbeitungsgrundlagen typischer Positiv-Photoresiste, die für diesen Zweck verwendet werden, sowie die Eigenschaften der von uns speziell für die Graustufenlithographie entwickelten Resistserie maP 1200G. Es werden verschiedene Strukturierungsbeispiele mit ma-P 1200G-Resisten vorgestellt sowie eine Methode, solche 2,5D-Resiststrukturen durch UV-Abformung in die Hybridpolymere OrmoStamp® und OrmoComp® für Permanent-Anwendungen zu übertragen.
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