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micro resist technology GmbH (MRT) – führend in der Entwicklung, der Produktion und dem Vertrieb von innovativen Photoresisten, Polymeren und Photopolymeren
Über uns
micro resist technology GmbH (MRT) wurde 1993 gegründet und hat sich als zunächst Inhaber geführtes Unternehmen zu einem weltweit führenden Anbieter von Materialien für die Mikro- und Nanostrukturierung entwickelt. Seit dem 1. März 2025 ist MRT Teil der TOK Group – TOKYO OKHA KOGYO CO., LTD. (TOK). Damit gehen zwei etablierte Fotolackhersteller eine strategische Partnerschaft ein, die ihre kundenorientierten Geschäftsansätze und die globale Wettbewerbsfähigkeit beider Unternehmen weiter verstärkt. Das Unternehmen mit Sitz in Berlin vereint unter einem Dach Entwicklung, Produktion, Logistik sowie ein Reinraumlabor und beschäftigt aktuell mehr als 50 Mitarbeitende.
Die Kernkompetenz des Unternehmens liegt in der Entwicklung, Herstellung und dem Vertrieb von Photoresisten, Polymeren und Photopolymeren sowie ergänzenden Prozesschemikalien, die in verschiedensten lithographischen Fertigungsverfahren bei der Mikro- und Nanostrukturierung zum Einsatz kommen. Die Materialien finden Anwendung in technologischen Zukunftsfeldern wie der Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Opto– und Nanophotonik, der Nanotechnologie sowie in Bereichen wie Life Sciences, Sensorik, Augmented und Virtual Reality und der Mikrofluidik. MRT richtet sich dabei sowohl an industrielle Kunden als auch an akademische Forschungseinrichtungen und bietet neben Produkten auch umfassende technische Beratung und Anwendungssupport an.
Eine besondere Stärke der micro resist technology GmbH liegt auch in ihrer strikten Forschungsorientierung. In enger Zusammenarbeit mit internationalen Hochschulen und Forschungspartnern, unter anderem im Rahmen europäischer Projekte, entwickelt das Unternehmen innovative Materialien und Prozesse. Die eigene Reinraumkapazität und die enge Kooperation mit Partnern ermöglicht es, Produkte praxisnah zu testen und gemeinsam mit Kunden anwendungsorientierte Lösungen zu erarbeiten.
Mit über drei Jahrzehnten Erfahrung, einem klaren Fokus auf technologische Exzellenz und einer starken Innovationskultur ist die micro resist technology GmbH ein zuverlässiger Partner für Unternehmen und Forschungseinrichtungen weltweit. Durch die Verbindung mit TOK erschließt MRT neue Potenziale in der europäischen Halbleiterstrategie und setzt seine Entwicklung als zukunftsorientiertes Hightech-Unternehmen konsequent fort. Durch die weltweite Präsenz der TOK-Gruppe und die Bereitstellung europäischer Materialinnovationen für einen erweiterten Kundenkreis und ergänzende Anwendungsbereiche verstärkt MRT seine globale Reichweite von Geschäftsmöglichkeiten, während TOK sein Geschäft mit der Halbleiterindustrie in Europa weiter ausbaut.
Resist-Alliance
Als Resist–Alliance verstehen wir uns zudem als zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation und ergänzen das Portfolio unserer eigengefertigten Produkte durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte weiterer internationaler Hersteller. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.
Historie
Seit der Firmengründung fertigen wir am Standort Berlin als mittelständisches Chemieunternehmen spezialisierte Materialien für die globalen Hochtechnologiemärkte, in denen Prozesse wie die UV-, Laser-, Röntgen- und Elektronenstrahllithographie, die Nanoimprint-Lithographie sowie assoziierte Strukturierungstechnologien zum Einsatz kommen. In einem kontinuierlichen Innovationsprozess erweitern wir unser Produktportfolio und erarbeiten zudem kundenspezifische Lösungen in höchster Qualität. Wir sind seit 1997 nach DIN EN ISO 9001 (Qualitätsmanagementsystem) und seit 2011 nach DIN EN ISO 14001 (Umweltmanagementsystem) zertifiziert.
© All rights reserved: micro resist technology GmbH / Gestaltung und Umsetzung: onthewall GmbH
micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.
DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.
Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.
DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.
Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.
Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren
Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)
Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.
Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.
Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.
micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.
OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436
Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie
Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie