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info@microresist.de

News

In diesem Bereich können Sie sich über die Neuigkeiten aus dem Hause micro resist technology informieren. Wir halten Sie immer auf dem Laufenden bezüglich unserer Teilnahme an Workshops und Konferenzen, neuer Forschungsprojekte und wichtiger Neuigkeiten zum Unternehmen. Beachten Sie den gesonderten Tech-Blog, wo wir regelmäßig über technische Novitäten und Innovationen informieren.

In this area you can find out about the latest news from micro resist technology. We will keep you informed about our participation in workshops and conferences, new research projects and important news about the company. Note the separate tech blog, where we regularly provide information about technical novelties and innovations.

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Information
40th EMLC Conference Dresden - Welcome Page - VDE VDI GMM
40th Mask and Lithography Conference 2025 | Dresden, Germany | June 16-18, 2025
We are pleased to inform you that we will be exhibiting at this year's EMLC in Dresden from 16 - 18 June.
16. Mai 2025
Information
XRnanotech_2025-06-18
Join the mrt webinar series and meet the experts
micro resist technology offers a free online seminar series „mrt webinar – meet the experts“ on a monthly base.
15. Mai 2025
Information
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27. Weltleitmesse und Kongress fürKomponenten, Systeme und Anwendungen der Photonik 24.–27. Juni 2025 | Messe München
We would like to announce that this year we will also be exhibiting at Laser World of Photonics in Munich.
12. Mai 2025
Information
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+++ Company Announcement +++
micro resist technology GmbH becomes part of the TOK Group for joint expansion into European semiconductor manufacturing and related markets
5. Mai 2025
Information
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14th edition of NILindustrialday 2025
The 14th edition of NILIndustrial Day 2025 is fast approaching - an unmissable event for industry professionals and enthusiasts! We hope you've marked May 5 and 6 in your calendar. The NIL Industry Day is designed to complement the academic and science-oriented conferences.
24. Januar 2025
Information
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Nano-Micro-Lithography Symposium 2025
We are pleased to welcome you once again to this year's edition of NMLS on March 12-13 2025 – NMLS brings together technical experts, customers, and users from Heidelberg Instruments, Nanoscribe, micro resist technology and GenISys. The symposium will be held as an in-person event at the TU Eindhoven in the Netherlands.
23. Januar 2025
Information
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Workshop Advanced Optics Production
We are looking forward to the next highlight at the beginning of March. The OptecBB association is organizing a workshop on advanced optics production. Representatives of the participating companies will talk about new trends, challenges and applications.
15. Januar 2025
Information
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Display Innovation Day on December 11th, 2024
Among many other exciting contributions, our expert Dr. Maria Russew will give a presentation on “Highly reliable hybrid polymer materials for micro-optical applications, photonics and beyond”
3. Dezember 2024
Information
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Workshop "Beams & More" in Stuttgart
Our expert Dr. Alexander Plucinski will be there with his presentation on “Innovative Photopolymers Advancing Micro- and Nano Patterning for Photonic Applications”
31. Oktober 2024
Information
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Semicon Europa 2024, November 12 - 15
We would like to welcome you - customers and partners - again at SEMICON Europa hall C2, booth 746
10. Oktober 2024
Information
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PolyChrome Workshop – Berlin Adlershof – Curie-Cabinet – October 9th, 2024
We will contribute to this workshop with an expert presentation by Dr. Maria Russew about “Hybrid Polymers for Optical Applications and Beyond”.
25. September 2024
Information
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MNE 2024 - September 16th - 19th, 2024
MRT will be attending MNE again this year - the 50th edition of the International Micro and Nano Engineering Conference from September 16th – 19th, 2024 in Montpellier, France
11. September 2024
Information
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Technical Workshop - Montpellier - September 16th, 2024
In the run-up to the MNE conference in Montpellier, the Technical Workshop on Laser Lithography & Direct Write is taking place - organized by Heidelberg Instruments, GenISys, and micro resist technology.
10. September 2024
Information
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NanoKorea 2024 – July 3rd – 5th, 2024
We are proud to announce that we will be attending NanoKorea at KINTEX Exhibition Center I in the first week of July.
22. Juni 2024
Information
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NNT (2024) NIL ID – Save-the-date
This year, 2024, we will join forces and merge the NNT 2024, the 23rd International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies, and the European NIL Industrial Day 2024, the 14th summit focusing on industrial applications of Nanoimprint Lithography, to be held as a united conference on June 24-27, 2024, at ”The Medicon Village” in Lund, Sweden.
21. Juni 2024
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BioChip in Berlin
We will be presenting at BioChip in Berlin this year. Look forward with us to Dr. Maria Russew contribution. She will be speaking about one of our important research projects on Wednesday, May 29 at 14:25 p.m. on the topic: "PolyChrome – Photonics for sensing applications".
28. Mai 2024
Konferenz
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SPIE Advanced Lithography + Patterning February 25th – 29th 2024
We would like to proudly inform you that we will be at the SPIE-AL in San Jose California again this year. You are welcome to meet our experts in the technical exhibition at booth #538.
13. Februar 2024
Information
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Besuch der Berliner Wirtschaftssenatorin
Wir beginnen unser neues Jahr gleich mit einem Highlight! Franziska Giffey – Berliner Wirtschaftssenatorin war am 8. Januar 2024 bei uns zu Gast im Rahmen der „Made in Berlin“-Tour des Jahres 2024...
11. Januar 2024
Information
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Semicon Europa 2023, November 14 - 17
We look forward to welcoming you - customers and partners - again at the SEMICON in Munich...
11. Oktober 2023
Information
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Workshop PolyChrome Berlin
We are pleased to announce our participation in the workshop PolyChrome Berlin on November 2nd 2023
11. Oktober 2023
Information
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Nano-Micro-Lithography Symposium
Nano-Micro-Lithography Symposium Save the date: November 6th/7th, 2023
11. Oktober 2023
information
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NNT 2023, October 9 – 11
We are looking forward to our participation in the NNT 2023 conference and exhibition. Taking place in Boston (USA) from October 9th – 11th...
4. Oktober 2023
Information
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MNE - Micro and Nano Engineering Conference 25. - 28.09.2023 in Berlin
We are pleased to inform you that we - micro resist technology GmbH - are the local conference organizers of this year’s MNE 2023 ...
14. Juni 2023
Information
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Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication
Workshop Maskless Laser Lithography for the Advanced Micro- and Nanofabrication...
14. Juni 2023
Information
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26. Weltleitmesse und Kongress für Komponenten, Systeme und Anwendungen der Photonik 27.–30. Juni 2023 | Messe München
We would like to announce that this year we will also be exhibiting at Laser World of Photonics in Munich.
14. Juni 2023
Information
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NIL industrialday 2023
Leading NIL experts will once again meet at the 2023 NIL Industrial Day...
25. Februar 2023
Konferenz
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SPIE Advanced Lithography + Patterning 26 February - 2 March 2023
We are very pleased that we will resume our international trade fair trips in 2023!
24. Februar 2023
Information
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micro resist technology seit 30 Jahren erfolgreich am Markt
Der 17. Februar 2023 war für die micro resist technology GmbH ein ganz besonderes Datum...
24. Februar 2023
Information
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SEMICON EUROPA, 15. - 18. November 2022 in München
Wir freuen uns Sie auch in diesem Jahr wieder auf unserem Messestand begrüßen zu können...
7. Oktober 2022
Information
NMLS22
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, October 19th/20th, 2022
Joint Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography...
7. Oktober 2022
Information
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Workshop - Maskless Laser Lithography for Advanced Micro- and Nanofabrication, September 19
We especially invite you to the talk of our expert Dr. Arne Schleunitz on “Cross-functional photoresists and photopolymers enhancing micro- and nanofabrication”...
14. September 2022
Information
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MRT is Gold Sponsor @ MNE 2022
We proudly announce our Gold Sponsorship for the MNE 2022, the 48th International Conference on Micro and Nano Engineering focusing on innovations in micro- and nano-fabrication as well as applications of the fabricated micro/nanostructures, devices and microsystems.
14. September 2022
Information
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Please meet us at the Optonet Workshop, September 14-15
“Ultra Precision Manufacturing of Aspheres and Freeforms”...
8. September 2022
Information
PhotonicsFinland
Optics and Photonics Days from September 6th - 8th in Tampere (Finland).
Proudly we would like to inform you that we will be at the Optics and Photonics Days ...
31. August 2022
Information
Swiss-ePrint2022_banner_large
We are sponsor at the Swiss ePrint in Buchs (Switzerland)! September 5 – 6, 2022
There you will have the opportunity to meet and talk with our experts at the booth...
31. August 2022
Information
Top-Job-2022-Siegel_kl
Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands...
Die micro resist technology GmbH (mrt), zählt 2022 wieder zu den besten Arbeitgebern Deutschlands. Auf Basis einer wissenschaftlich fundierten Mitarbeiter- und Managementbefragung zeichnet das Zentrum für Arbeitgeberattraktivität (zeag GmbH) alljährlich die attraktivsten Arbeitgeber des deutschen Mittelstandes mit dem „Top Job“-Siegel aus. Besonders überzeugte unser Unternehmen durch gutes Mitarbeiterfeedback im Bereich Führung & Vision.
14. Juli 2022
Information
Graphene 2022_
Graphene 2022, July 5 – 8
We are pleased to announce our participation at Graphene 2022 in Aachen. Our experts will also be there for you online.
27. Juni 2022
information
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NIL Industrialday June 14th – 15th 2022 - The leading Conference for Nanoimprint Lithography and its Applications
We are happy to announce that the next NILIndustrial Day 2022 will take place on June 14th – 15th 2022 as a fully remote summit...
9. Juni 2022
Information
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May 09, 2022 - Technical Workshop (in-person) on Maskless Laser Lithography and NanoFrazor® Patterning for Advanced 2D and 3D Biomedical Devices
Heidelberg Instruments and micro resist technology GmbH are jointly organizing this technical workshop focusing on systems and applications in biomedical technology...
12. April 2022
Information
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May 05, 2022 - IVAM High-Tech Summit 2022 - Solutions for Sustainability
We will participate in this year’s IVAM High-Tech Summit as business partner...
12. April 2022
Information
GabiGruetzner_Bundesverdienstkreuz_2022_
Geschäftsführerin Gabi Grützner mit dem Bundesverdienstkreuz ausgezeichnet
Unsere Gründerin und geschäftsführende Gesellschafterin Frau Gabi Grützner hat am 17.02.2022 aus den Händen von Stephan Schwarz, Senator für Wirtschaft, Energie und Betriebe das Bundesverdienstkreuz am Bande erhalten.
21. Februar 2022
Information
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White Paper: Advancing greyscale lithography and pattern transfer of 2.5D structures using maP 1200G resist series
In unserem zweiten White Paper konzentrieren wir uns auf die Graustufenlithografie...
19. Januar 2022
Information
Unbenannt-1
SEMICON EUROPA, 16. - 19. November 2021 München
Wir sind auf der SEMICON EUROPA in München!
12. Oktober 2021
Information
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NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, November 4h, 2021
Join us for the Symposium, hosted on gather.town. ...
12. Oktober 2021
Information
nnt21
NNT 2021, the 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies (16.-17.11.2021)
We are happy to present our recent R&D activities virtually on the upcoming 20th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technologies...
12. Oktober 2021
Information
MNC21_
MNC 2021, October 26-29, Online and On-demand, 34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference information
We are more than happy to present our recent R&D activities again far abroad in Japan ...
27. September 2021
Information
PhotonicDays21
Workshop on PolyChrome Technology Platform: Photonics for Sensing – October 5th, 2021
We gladly announce our participation in the upcoming Photonics Days Berlin Brandenburg ...
27. September 2021
Information
MNE21
MNE Micro and Nano Engineering Conference - Turin, Italy - September 20th - 23rd, 2021
The MNE is back this year and we will be again part of it! Visit us at our virtual booth in the expo area to learn about new material developments and new releases...
19. August 2021
Information
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Workshop on Maskless Laser Lithography & Direct Writing for Nano- and Microfabrication - September 20 th, 2021
We are pleased that the series of events “Maskless Laser Lithography and Direct Writing for Nano- and Microfabrication” will be continued within the framework of the MNE conference...
19. August 2021
Information
NMLS_News
NMLS Nano-Micro-Lithography Symposium, June 30th, 2021
An dieser Stelle möchten wir Sie auf die nächste Ausgabe des „Nano-Micro-Lithography Symposium“ aufmerksam machen...
16. Juni 2021
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virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021
We completed our preparations for this year’s virtual NIL INDUSTRIAL DAY 2021 and are now looking forward to an unique selection of exciting presentations.
16. Juni 2021
Information
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White Paper: Cyclic Olefin Copolymer (COC) Formulation for the Fabrication of Sub-Micron Thin Films
We are very happy to announce the start of our new white paper series...
27. Mai 2021
Konferenz
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EIPBN Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
We are pleased to announce our participation in the virtual EIPBN conference on...
23. April 2021
Information
Micro Patterned Micro Titer Plates
Special issue “Nanoimprint Lithography Technology and Applications”
We are pleased to announce that our work on a “novel concept of Micro Patterned Micro Titer Plates Fabricated via UV-NIL for...
28. März 2021
Konferenz
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EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics
We will participate in EPIC’s Online Technology Meeting on Moulded Optics on Monday, 3 May 2021
12. März 2021
Konferenz
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Online Symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application”
We are pleased to announce our participation in the online symposium “Functional Coatings, Manufacturing, Metrology & Application” organized by the TH Wildau on the 9th of March.
25. Februar 2021
Konferenz
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NNCI Advanced Lithography UnSymposium @ Stanford University
We proudly announce our participation with two presentations in the virtual, interactive online event organized by our partners Raith and Heidelberg Instruments...
14. Januar 2021
Konferenz
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Virtual Exhibition and Conference PHOTONICS+
Committed to develop the most efficient and effective photonics virtual exhibition and conference, our partner EPIC – European Photonics Industry consortium – is organizing...
20. Dezember 2020
Information
Bild_zum_Jahresabschluss2020_de
Wichtige Information
Sehr geehrte Kunden, Partner und Freunde, ein ungewöhnliches Jahr geht zu Ende!
4. Dezember 2020
Information
mikrofluidik_news
Interview zum EU-Projekt NextGenMicrofluidics
Wir freuen uns sehr über unseren Beitrag im aktuellen Cluster Newsletter für optische Technologien und Mikrosystemtechnik...
3. Dezember 2020
Konferenz
symposium_on_nanolitho2020
Online Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography
Stolz möchten wir ankündigen, dass die nächste Veranstaltung des „Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography“...
2. Dezember 2020
Information
3D Printing of Optical Components
3D Printing of Optical Components
In einem Beitrag zum Buch "3D Printing of Optical Components" stellen wir die Chemie unserer Hybridpolymere sowie...
26. November 2020
Information
image001
Beitritt zur Graphen-Flaggschiff-Initiative der EU
Wir freuen uns sehr, einer der größten Forschungsinitiativen beigetreten zu sein, die jemals von der Europäischen Kommission finanziert wurden...
18. Oktober 2020
HoliFAB_MRT_News
Digitale HoliFAB Konferenz
Als Partner der Projektkonsortiums freuen wir uns die erste digitale HoliFAB Konferenz am 5. November 2020 anzukündigen...
18. Oktober 2020
Information
infos_zu_covid19
Aktuelle Informationen zu COVID-19
Während der weltweiten Pandemie von COVID-19 leisten wir bei der micro resist technology GmbH unseren notwendigen Beitrag...
16. August 2020
Information
logos_mrt_dj
Partnerschaft mit DJ MicroLaminates
micro resist technology GmbH und DJ MicroLaminates bekräftigen ihre langjährige Partnerschaft...
14. Juli 2020
Tech-Blog
Chalmers_maN2400_3_16_9
Herstellung von Phase-gradient Meta-surfaces basierend auf high AR ma-N 2400 Strukturen
Elektronenstrahllithographie unter Verwendung des hoch empfindlichen ma-N 2400 Negativresists in Verbindung mit einer...
14. Juli 2020
Tech-Blog
Blog_funktional_materials_by_inkjetprinting_Voigt_
Funktionelle Materialien für Ink-Jet Printing - InkOrmo und InkEpo
micro resist technology bietet Inkjetprinting-Materialien an. Die Materialien wurden mit dem Ziel...
30. Juni 2020
Tech-Blog
Blog_microlensarrays_byReflow_and_moulding_Schuster_Klein_reflow_widget
Herstellung von Mikrolinsen-Arrays mittels Reflow und UV-Abformung
Eine kostengünstige Methode zur Herstellung von Mikrolinsen-Arrays ist das Rundschmelzen des strukturierten...
23. Juni 2020
Tech-Blog
Blog_core_clad_system_Voigt_optical_waveguides_widget_
Kern- und Mantel-Materialsysteme für optische Wellenleiter
micro resist technology bietet unterschiedliche Materialsysteme für die Herstellung optischer Wellenleiter an...
23. Juni 2020
Tech-Blog
Blog_optical3Dpatterning_greyscale_Schuster_3d_patterning_process
Dreidimensionale optische Strukturen - Grauton-Lithographie
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie...
23. Juni 2020
Tech-Blog
083A4280
Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Wir bieten Lithografie-Dienstleistungen und Anwendungsentwicklungen, um unsere Kunden bei der Suche nach maßgeschneiderten...
18. Juni 2020
Tech-Blog
Blog_3D_optical_2pp_Klein_2pp_bilder
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Die Zwei-Photonen-Polymerisation ist eine ausgezeichnete Technik zur Herstellung individueller mikro(optischer) 3D-Strukturen...
18. Juni 2020
Tech-Blog
3DStrukturen_b1
Mikrooptische 3D-Strukturen mittels Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung individueller 3D Strukturen ist die 2-Photonen-
Polymerisation (2PP)...
18. Juni 2020
Tech-Blog
Topographie_b1
Homogene Beschichtung von Substraten mit Topographie
Eine materialsparende Methode zur homogenen Beschichtung von Substraten, insbesondere von Substraten mit Topographie oder unförmigen...
18. Juni 2020
Tech-Blog
ma_N_2400_DeepUV_b1
Herstellung von sub-µm-Strukturen mittels Tief-UV-Lithographie mit ma-N 2400
Tief-UV Lithographie unter Verwendung des hochempfindlichen Negativresists ma-N 2400 ist eine Methode für die Herstellung...
18. Juni 2020
Publikationen
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Grayscale positive photoresist
Grayscale lithography creates 3D film profiles with gradually varying thickness1, see Fig.1. The grayscale lithography is especially...
11. Mai 2020
Konferenz
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SPIE Advanced Lithography
We are pleased to announce our participation in the SPIE Advanced Lithography 2020 in San Jose, California...
7. Februar 2020
Konferenz
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Symposium on Nanolithography
Symposium on Nanolithography ~ 18./19.02.2020 in Stuttgart - As in the last years we would like to invite you...
7. Februar 2020
Konferenz
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SPIE Photonics West 2020
We are pleased to announce our participation in the SPIE Photonics West 2020 in San Francisco, California 01-06 February.
7. Februar 2020
Konferenz
Unbenannt-4_0002_Semicone2016_2
SEMICON EUROPA 2019
In November from 12th to 15th the Semicon Europe Exhibition will take place in Munich, Germany...
7. Februar 2020
Resist Alliance
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MicroChem Corp. (MCC) changed its name
In September 2019 the 45th International Conference on Micro & Nano Engineering will be held in Rhodes Greece...
7. Februar 2020
Konferenz
tranducers2019
TRANSDUCERS 2019 in Berlin - Germany
Proudly we announce our participation at TRANSDUCERS 2019 – EUROSENSORS XXXIII in Berlin
7. Februar 2020
Konferenz
enris2019
ENRIS • Enschede NL
The European Nanofabrication Research Infrastructure Symposium (ENRIS) 2019 is the 2nd edition of the...
7. Februar 2020
Konferenz
osa2019
OSA - Optical Design and Fabrication Congress
We are pleased to announce our participation in the 2019 Optical Design and Fabrication Congress, to be held at OSA Headquarters...
7. Februar 2020
Konferenz
cmi_epfl_2019
20th CMi Annual Review Meeting
We are pleased to announce our participation in the 20th CMi Annual Review Meeting on Tuesday May 7th, 2019 at the EPFL in Lausanne...
7. Februar 2020
Konferenz
electrontechexpo_moskau2019
ElectronTechExpo, Moscow
We are pleased to announce our participation in the 17th International exhibition of technologies, equipment and materials for electronic and...
7. Februar 2020
Konferenz
nilid2019
NILindustrialday, Aachen
In March 2019, micro resist technology will be co-hosting the 9th edition of the NIL Industrial Day symposium with its partner AMO and...
7. Februar 2020
Konferenz
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CHEMNITZER SEMINAR
Im März findet das Chemnitzer Seminar Elektronenstrahlithographie: Materialien – Prozesse – Anwendungen am...
7. Februar 2020
Konferenz
ist_austria
Symposium Nanolithography
Im März findet das 2. Europäische Symposium Direct Write, Optical, Ion and Electron beam Lithography am IST Austria...
7. Februar 2020
Konferenz
spie_photonics_west
SPIE Photonics West 2019
We are pleased to announce our participation in the SPIE Photonics West Exhibition 2019 in San Francisco (USA), 5-7 February 2019.
7. Februar 2020
Tech-Blog
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Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen mittels Grauton-Lithographie und UV-Abformung
Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer....
2. Februar 2020
Tech-Blog
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Produktbegleitende lithographische Dienstleistungen
Auf Basis unserer langjährigen Prozesserfahrungen bieten...
1. Februar 2020
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen