SÜSS MicroTec & micro resist technology GmbH
SÜSS MicroTec & micro resist technology GmbH
Information
11.06.2020

Pressemitteilung:

SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kündigen ein Joint Venture an, um den Einsatz der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen weiter voranzutreiben. Die Kooperation ist unter dem Dach des SÜSS Imprint Excellence Center angesiedelt.

Garching, 9. Juni 2020 - SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und micro resist technology GmbH, ein führendes Unternehmen für die Entwicklung und Herstellung innovativer Fotoresiste und fortschrittlicher Nanoimprint-Materialien, geben heute ihre Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bekannt. NIL ist ein Schlüsselfaktor für die Revolution in der additiven Fertigung durch High- Fidelity-Musterübertragung. Dieses UV-Härtungs-Prägeverfahren wird zunehmend eingesetzt bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen in der Photonik, wie z.B. diffraktive optische Elemente in Augmented-Reality-Brillen oder für die Gesichtserkennung sowie für den Transfer von Mikro- und Nano- Strukturen, z.B. in optischen Sensoren, Laser-Nano-PSS (Patterened-Sapphire-Substrate) oder für den Fälschungsschutz.

Die Anforderungen an die Nanoimprint-Lithografie und ihre Anwendungen ist in stetigem Wandel. Das grundlegende Ziel der Zusammenarbeit besteht daher darin, neu entstehende Anforderungen zu verstehen und hierfür Lösungen sowohl auf Prozess- als auch auf Materialebene zu implementieren, um so den hohen Herausforderungen der Industrie zu entsprechen.

Ein qualitativ hochwertiger Imprint basiert auf drei Säulen: Equipment, Verfahren und Materialien. Die ersten beiden Säulen, Ausrüstung und Erfahrung in der Großserienfertigung, werden über das SÜSS Imprint Excellence Center, einer gemeinsamen Unternehmung von SÜSS MicroTec Lithography und SÜSS MicroOptics, bereitgestellt. Durch die Verbindung mit der dritten Säule, der chemischen Expertise des Nanoimprint-Materialanbieters micro resist technology GmbH, wird diese Konstellation weiter ergänzt und gestärkt. Die Kombination dieser drei Säulen ermöglicht es, den hohen Bedarf der Industrie mit seinen immer anspruchsvolleren Anforderungen an die Replikation von Nanostrukturen besser abzudecken.

"Das SUSS Imprint Excellence Center stützt sich auf jahrzehntelange Erfahrung im Bereich Imprint- Equipment und industrieller Prozessentwicklung für die Hochvolumenproduktion ", erklärt Franz Richter,CEO von SÜSS MicroTec. „Eine weitere Stärkung dieses Clusters durch eine starke Partnerschaft miteinem führenden Resist-Lieferanten und erfahrenen Materialhersteller ist unabdingbar, um perfekte Imprint-Lösungen zu ermöglichen".

Die beteiligten Unternehmen haben sich der intensiven Zusammenarbeit verschrieben, mit dem gemeinsamen Ziel, die Entwicklung bestehender und neuer Anwendungen sowohl in Richtung Hochleistungs- als auch Großserienproduktion weiter voranzutreiben.

"Seit mehr als zwei Jahrzehnten liefert die micro resist technology (MRT) maßgeschneiderte Resist- Rezepturen für NIL rund um den Globus", sagt Gabi Grützner, CEO und Gründerin von MRT. "Durch unser profundes Know-how auf dem Gebiet der Polymerchemie und der Replikationsverfahren ist es uns möglich, hochmoderne Materiallösungen anzubieten. Diese decken eine steigende Anzahl von industriellen Anwendungsbereichen ab, bei denen die Replikationstechnologie für die Komponentenherstellung beispielsweise in der Unterhaltungselektronik eingesetzt wird. Wir freuen uns sehr über die Zusammenarbeit mit unserem Partner innerhalb der Allianz, da der Erfolg unserer Kunden bei industriellen Prägeprozessen beschleunigt werden kann, wenn Materialien und Ausrüstung aufeinander abgestimmt sind. In dem SUSS Imprint Excellence Center sehen wir große Chance, der Community das passende Gesamtpaket zur Verfügung zu stellen, um NIL für noch mehr industrielle Anwender verfügbar zu machen".

Über SÜSS MicroTec

SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikrostrukturierung in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D-Integration und Nanoimprint-Lithografie sowie Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com.

Über micro resist technology GmbH

Die micro resist technology GmbH ist ein führendes Unternehmen in der Entwicklung und Produktion innovativer Photoresiste, Polymere und Photopolymere sowie komplementärer Prozesschemikalien für lithografische Herstellungsverfahren in der Mikro- und Nanostrukturierung. Die Materiallösungen werden in Schlüsseltechnologien und Wachstumsmärkten wie Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Optoelektronik, Mikro- und Nanophotonik, Mikro- und Nanotechnologie sowie den Biowissenschaften eingesetzt. Das inhabergeführte Unternehmen besteht seit seiner Gründung 1993 am Standort Berlin (inkl. Entwicklungsabteilung, Fertigung und Logistik sowie der Applikationsreinraum auf 300 m2), agiert mit seinen mehr als 50 Mitarbeiter weltweit und ist erfolgreich nach den Normen ISO 9001: 2015 und ISO 14001: 2015 zertifiziert. Für weitere Informationen besuchen Sie www.microresist.de.

Kontakt: Hosgör Sarioglu-Zoberbier, Director Corporate Marketing SÜSS MicroTec SE, Tel: +49 89 32007 397, E-Mail:

hosgoer.sarioglu@suss.com

Weiter Informationen finden Sie hier: https://www.suss.com/de/news-detail/press/2020/2020-06-09-de-1978627/24789

Lithographie-Service & Anwendungs-entwicklungen

Auf Basis unserer langjährigen Prozesserfahrungen bieten wir produktbegleitende lithographische Dienstleistungen an.
Tech-blog

Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen mittels Grauton-Lithographie und UV-Abformung

Eine ausgezeichnete Methode zur Herstellung dreidimensionaler optischer Strukturen ist die Grauton-Lithographie mit dem Positiv-Resist ma-P 1200G und anschließender Strukturübertragung mittels UV-Abformung mit OrmoStamp® und OrmoComp®.
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Resist Alliance

micro resist technology ist in Europa zentrale Anlaufstelle für Spezialchemikalien mit Anwendung in der Mikro- und Nanofabrikation. Das Portfolio der eigengefertigten Produkte wird durch den strategischen Vertrieb assoziierter Produkte ergänzt, die durch unsere internationalen Partner hergestellt werden. Hier agieren wir als High-Service-Distributor und bieten dem europäischen Mittelstand ein breites Spektrum an komplementären Produkten aus einer Hand, die sowohl für etablierte als auch für innovative Produktions- und Fertigungsverfahren eingesetzt werden können.

DuPont Electronic Solutions (ehm. DOW Electronic Materials / Rohm and Haas Europe Trading ApS)
Wir bieten Produkte für Semiconductor Technologies, Advanced Packaging und Trockenfilmresiste unseres Partners DuPont an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten. 

Kayaku Advanced Materials, Inc. (ehm. MicroChem Corp.)
Wir bieten Photoresiste und Spezialchemikalien für MEMS und Mikroelektonik-Anwendungen unseres Partners Kayaku Advanced Materials an, mit dem wir seit mehr als 20 Jahren zusammenarbeiten.

DJ MicroLaminates, Inc.
Wir bieten Trockenfilmresiste für MEMS, Mikrofluidik und Packaging-Anwendungen unseres Partners DJ MicroLaminates an, mit dem wir seit über zwei Jahren kooperieren.

 

Ansprechpartner

Franziska Kopp

DuPont

E-Mail: f.kopp@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Anja Voigt

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

Kayaku Advanced Materials, DJ Mikrolaminates

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Trockenfilmresiste

Trockenfilme sind anwendungsfertige Polymerfilme als Laminat mit einer hohen Schichtdickengenauigkeit und exzellenten Haftungseigenschaften auf verschiedensten Untergründen. Sie sind einfach in der Verarbeitung, foto-strukturierbar und sowohl als zugeschnittene Bögen als auch als Rollenmaterial verfügbar.

  • Verfügbar in verschiedenen Dicken
  • UV-vernetzend – wie negativ Fotoresiste
  • Hohe Aspektraten möglich
  • Senkrechte Seitenwände
  • Mehrfachlaminierung möglich – bis zu 6 Schichten  komplexe Multilayer-Designs
  • Hohe chemische Resistenz
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter …), in der Mikrofluidik

Ansprechpartner

Carsten Schröder

E-Mail: c.schroeder@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Funktionelle Materialien für Inkjet-Printing

Spezielle Funktionsmaterialien aus den Produktgruppen Hybridpolymere, Photoresiste und Nanoimprint Polymere für die Beschichtung und alternative Strukturierung mittels Inkjet-Printing-Verfahren

  • Verfügbar in verschiedenen Viskositäten (einstellbar)
  • Anwendbar in kommerziellen Inkjet-Printing Geräten
  • Ausgerichtet auf stabile Reproduzierbarkeit in der Tropfengeneration
  • UV-aushärtende Formulierungen
  • Anwendung als Permanentmaterial für optische Anwendungen (Linsen, Wellenleiter, optische Koppler, diffraktive Elemente, …)
  • Als Packagingmaterial in der Mikroelektronik
  • Beschichtung / Strukturierung auf Substraten mit Oberflächentopographie 
  • Imprintmaterial in der Nanostrukturierung mit hoher Dosiergenauigkeit

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Hybridpolymere

micro resist technology bietet ein breites Portfolio an UV-härtbaren Hybridpolymer Produkten für mikrooptische Anwendungen. Durch ihre ausgezeichnete optische Transparenz  und hohe thermische Stabilität sind diese besonders geeignet zur Herstellung polymerbasierter optischer Komponenten und Wellenleiter. Die Hauptanwendungsgebiete sind die Herstellung von Mikrolinsen, diffraktiven optischen Elementen (DOE), Gitterstrukturen sowie Singlemode- oder Multimode-Wellenleitern.

OrmoComp®: DE 30 210 075 433; IR 1 091 982 ; TW 100030626; OrmoClear®: DE 30 210 075 434; IR 1 091 359 ; TW 100030628; OrmoStamp®: DE 30 210 075 435; IR 1 092 621 ; TW 100030629; OrmoPrime®: DE 30 210 075 436

Ansprechpartner

Dr. Jan Klein

E-Mail: j.klein@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Positive Photoresiste

Positiv-Photoresiste für die UV-Lithographie (Mask Aligner-, Laser-, Grauton-Belichtung) und Elektronenstrahllithographie

  • Verschiedene Viskositäten für 0,1 µm – 60 µm Schichtdicke in einem Schleuderbeschichtungsschritt
  • Geeignet für Breitband-, g-Linien- , h-Linien-oder i-Linien-Belichtung, Laser-Direktschreiben bei 350…450 nm und Elektronenstrahllithographie
  • Kein Post Exposure Bake
  • Leichte Entfernbarkeit
     
  • Für die Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform, Form für die UV-Abformung
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z.B. MEMS, LEDs, IC-Bausteinen, MOEMS, Glasfaserkommunikations-Bausteinen, Flachbildschirmen

Ansprechpartner

Dr. Christine Schuster

E-Mail: c.schuster@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Negative Photoresiste

Photoresiste für UV (Mask Aligner, Laser)/ Elektronenstrahl- und Tief-UV-Lithographie

  • Geeignet für Breitband- und i-Linien-Belichtung, Tief-UV- oder Elektronenstrahlbelichtung,  oder Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Lift-off Resiste mit einstellbarem Kantenprofil, hohe Temperaturstabilität bis zu 160 °C
  • ​Verschiedene Viskositäten für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt
     
  • Für die Strukturübertragung: Physical vapour deposition (PVD) und Lift-off als Einschichtsystem, Ätzmaske, Galvanikform 
  • Für die Permanentanwendung: Polymerbasierte Wellenleiter
  • Anwendung in Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Mikro-Optik – Herstellung von z. B. LEDs, ICs, MEMS, Flachbildschirmen, Glasfaserkommunikations-Bausteinen

Ansprechpartner

Dr. Anja Voigt

E-Mail: a.voigt@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Nanoimprint-Resiste

Resiste für die Nanoimprint-Lithographie (NIL)

Die Nanoimprint Lithographie (NIL) ist eine sehr einfache und kostengünstige Technologie zur Herstellung von Strukturen mit Größen weniger Nanometer, die effizient in einem Prozessschritt auch auf großen Flächen realisiert werden kann. Hauptanwendungsfelder der NIL sind photonische Komponenten, unterschiedliche Bauelemente für die nächste Generation der Verbraucherelektronik, sowie Bio- und Life-Science-Sensoren.

Die micro resist technology GmbH bietet seit 1999 maßgeschneiderte Resistformulierungen für die Nanoimprint-Lithographie (NIL) an. Wir legen dabei besonderen Wert auf herausragende Filmbildungs- und Prägeeigenschaften sowie eine exzellente Plasmaätzstabilität und Strukturtreue. Weiterhin bieten wir hochinnovative Materialien, die eng an dem technischen Fortschritt in der Industrie entwickelt wurden. Wir sind in der Lage unsere Materialien an die Kundenwünsche anzupassen, sowohl in den gewünschten Schichtdicken, als auch in deren intrinsischen Materialeigenschaften. Die Nanoimprint-Resiste werden meist als Ätzmaske zur Strukturübertragung in unterschiedliche Substrate wie Si, SiO2, Al oder Saphir, eingesetzt.

Prinzipiell existieren zwei unterschiedliche NIL-Technologien: die thermische NIL (T-NIL), in der thermoplastische Polymere Verwendung finden, und die Photo-NIL bzw. UV-NIL, in der photo-vernetzbare Formulierungen eingesetzt werden. Mit unserer langjährigen Erfahrung sind wir in der Lage, den für Sie passenden Prozess und das am besten geeignetste Material für Ihre Anwendung zu finden. Kontaktieren Sie uns für tiefergehende Informationen.

Ansprechpartner

Dr. Manuel Thesen

E-Mail: m.thesen@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100

Anja Hinz

E-Mail: a.hinz@microresist.de

Telefon: +49 30 64 16 70 100