mr-NIL200 series

mr-NIL200 ist ein photo-vernetzbarer NIL-Resist der speziell für harte und nicht-permeable Stempelmaterialien entwickelt wurde. Typisches Anwendungsfeld ist der Einsatz als Ätzmaske für den Strukturtransfer bei z.B. photonischen Anwendungen. Für den Einsatz von mr-NIL200 brauchen Sie keinen zusätzlichen Haftvermittler oder Primer.

Merkmale

  • Kein zusätzlicher Haftvermittler oder Primer für die gängigsten Substratoberflächen notwendig (Si, SiO2, Al, Saphir, Cu, unterschiedliche organische Unterschichten wie LOR, UL1, UL3)
  • Härtet vollständig in Gegenwart von Luftsauerstoff
  • Die geringe Viskosität ermöglicht schnelle Strukturfüllung und minimiert mögliche Imprintdefekte in Form von Lufteinschlüssen

Anwendungsbeispiele

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Step-and-repeat nanoimprint on pre-spin coated film for the fabrication of integrated optical devices
G Calafiore et al., J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 14(3), 033506 Link zum Abstract

Efficient fabrication of photonic and optical patterns by imprinting the tailored photo-curable NIL resist «mr-NIL200»
M Messerschmidt et al., Poster, International Conference on Micro & Nano Engineering MNE2018, Copenhagen Link zum Poster

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 Empfohlene Prozessparameter

Verfahrensschritt

Prozessparameter

Schleuderbeschichtung

3000 rpm for 30 s

Prebake-Bedingungen

60 °C für 180 s

Prägetemperatur

Raumtemperatur

Prägedruck

> 100 mbar

Belichtungsdosis

> 1J cm-2

Belichtungseinheit

Option 1: broad band
Option 2: LED (365-405 nm)

Verdünner (Thinner)

mr-T 1078

Haftvermittler (Primer)

Nicht erforderlich
(mr-APS1 bei Bedarf für mr-NIL200 Schichtdicken > 300nm)

 Schichtdicken und verfügbare Versandeinheiten

Spezifikation

Schichtdicken und Versandeinheiten

Unsere ready-to-use-solutions für Standardschichtdicken (3000 rpm)

mr-NIL200-100 nm
mr-NIL200-200 nm
mr-NIL200-300 nm

Maßgeschneiderte Schichtdicken nach Bedarf möglich bis zu (3000 rpm)

1 µm

Verfügbare Abfüllungen

250 ml
500 ml
Größere Gebinde nach Rückfrage

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