mr-XNIL26SF

Photo-vernetzbarer NIL Resist mit einem hohen Anteil an fluorierten Komponenten

Merkmale

  • hoher Anteil an fluorierten Komponenten erleichtert die Stempeltrennung und vermindert die Defektrate
  • 100 % organisch, Rückstandsfrei entfernbar mit Sauerstoffplasma
  • Kann mit PGMEA oder ma-T 1050 auf 100nm-Schichtdicke verdünnt werden

Anwendungen

  • NIL bei der sehr niedrige Entformkräfte wichtig sind, beispielsweise Imprints auf einem Mehrschichtsystem
     

mr-XNIL26 Versionen

Schichtdicke

mr-XNIL26SF

4,8 µm

Sie erhalten unsere NIL-Polymere in folgenden Abfüllgrößen:

  • 0,25 l
  • 0,5 l
  • 1,0 l
  • 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)

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