Im März findet das 2. Europäische Symposium Direct Write, Optical, Ion and Electron beam Lithography am IST Austria (13. März 2019) statt:

https://www.raith.com/events/training-education/nanolithography-seminars/symposium-austria.html

Die micro resist technology GmbH wird das technische Programm mit folgendem Beitrag unterstützen „Latest Highlights in Resist and Photopolymer Development for UV direct writing and E-beam lithography“.
Bitte nutzen Sie die Gelegenheiten sich über die neuesten Entwicklungen, Innovationen und Anwendungen rund um das Thema „Direktschreibtechnologien“ zu informieren und mit Partnern vor Ort ins Gespräch zu kommen.

Eine Anmeldung/ Registrierung ist notwendig, da die Anzahl der Plätze begrenzt ist.  Wir freuen uns auf Sie! (https://ist.ac.at/ )!