Wir bieten Lithografie-Dienstleistungen und Anwendungsentwicklungen, um unsere Kunden bei der Suche nach maßgeschneiderten Prozesslösungen zu unterstützen.

Basierend auf unserer umfassenden Praxiserfahrung und unseren lithographischen Verarbeitungsmöglichkeiten bieten wir grundlegende lithographische Mikro- und Nanostrukturierungsdienstleistungen an, die unser gesamtes Produktportfolio umfassen. Darüber hinaus unterstützen wir unsere Kunden und Partnern mit Kooperationsmöglichkeiten für Machbarkeitsstudien und Herstellung von Demonstratoren.

Lithographieprozesse

  • Beschichtung von dünnen bis sehr dicken Schichten auf verschiedenen Substratens
  • Strukturierung durch UV-Photolithographie
  • Replikation durch thermische und UV-NIL
  • Inkjet-Printing

Plasmaprozesse

  • Entfernung von Resists (Stripping)
  • Oberflächenreinigung und -aktivierung

Anwendungsentwicklungen

Beispiele

1.) Fertigung von Resistmastern für die Herstellung von Mikrofluidikeinrichtungen (SU-8 auf Si-Wafer)

micro resist technology entwickelte einen einzigartigen Photolithographieprozess, um komplexe SU-8-Fotolackmaster auf Si-Wafern anzufertigen, die für die Herstellung von mikrofluidischen Vorrichtungen durch Replikation in PDMS verwendet werden. Der hochaufgelöste und mehrstufige Master kann aus Hauptkanälen im Mikrometerbereich bis zu sub-μm kleinen Kanälen bestehen. Bitte beachten Sie dazu auch die METAFLUIDICS Website: https://metafluidics.org/devices/dual-input-mother-machine/.

Eingesetzte Produkte: SU-8

2.) Herstellung eines mehrschichtigen Mikrostrukturarrays

Ein mehrschichtiges mikrostrukturiertes Array mit isolierten Goldleiterbahnen und elektrochemisch verbesserten Kontaktpads wurde auf Basis eines Kundendesign bei micro resist technology hergestellt.

Eingesetzte Produkte: ma-N 415, ma-N 490, ma-P 1275, SU-8

3.) NIL-basierte Replikation von diffraktiven optischen Elementen (DOEs) für Sicherheitsmerkmale

In Zusammenarbeit Mimotec SA wurde ein UV-NIL & LiGA-basierter mehrstufiger Replikationsprozess entwickelt, um DOEs von einem 4”-Silizium-Master in vereinzelte Mikrokomponenten aus Nickel zu übertragen.

Eingesetzte Produkte: OrmoStamp®, OrmoComp®, UV-PDMS and mr-NIL 6000E

3.) UV-Replikation von Fresnel-Zonen-Platten

Ein in der micro resist technology entwickelter UV-Replikationsprozess wurde angewendet, um Fresnel-Zonen-Platten des Fraunhofer Heinrich-Hertz-Instituts zunächst in einen geeigneten Arbeitsstempel zu überführen (linkes Bild) und anschließend in ein transparentes Polymer zu übertragen. Die Funktionalität wurde optisch geprüft (rechtes Bild).

Eingesetzte Produkte: OrmoStamp®, OrmoComp®

Nähere Informationen finden Sie in unserer Broschüre zu lithographischen Dienstleistungen und Anwendungsentwicklungen - oder Sie kontaktieren uns direkt.