Permanentanwendung oder konventionelle Strukturübertragungsprozesse
Merkmale
- Empfindlich oberhalb 400 nm, für das Direktlaserschreiben @ 405 nm
- Hohe thermische und chemische Stabilität
- Hohe Trocken- und Nassätzstabilität
Anwendungen
- Schnelles und kontaktloses Prototyping durch
- Permanentanwendungen: Master- und Templateherstellung, PDMS-Abformung
- Strukturübertragung: Ätzmaske, Galvanikform
Resist |
Schichtdicke |
---|---|
mr-DWL 5 |
5,0 µm @ 3000 rpm |
mr-DWL 40 |
40 µm @ 2000 rpm |
mr-DWL 100 | 100 µm @ 1500 rpm |
Sie erhalten unsere Negativ-Photoresiste in folgenden Abfüllgrößen:
- 0,25 l
- 0,5 l
- 1,0 l
- 2,5 l
- 100 ml als Testmenge, auf Anfrage (Mindermengenaufschlag)
Entwickler und Remover: • 1,0 l • 2,5 l • 5,0 l (Prozesschemikalien)
Verdünner: • 0,5 l • 1,0 l (Prozesschemikalien)