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micro resist technology GmbH

Projektnummer
NMP2-LA-2008-214249
European Large-Scale Framework 7-Projekt, gefördert von der Europäischen Kommission als Teil des NMP-Schwerpunkts

Projektlaufzeit
01. Mai 2008 – 30. April 2012

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Projektziele
Im Projekt Nanopatterning, Production and Applications based on Nanoimprinting Lithography (NaPANIL) arbeiten 18 Partner aus Industrie, akademischen Einrichtungen und privaten Instituten mit dem Ziel zusammen, skalierbare Prozesse der Nanofabrikation zur Erzeugung beliebiger dreidimensionaler Oberflächen mit Abmessungen deutlich unterhalb 100 nm für die Herstellung optischer Elemente und "life-Science"-Anwendungen zu entwickeln. Diese Prozesse sollen die Übernahme neuer Ideen und Anwendungen in die Industrie im Bereich der Nanotechnologie ermöglichen.

Insbesondere wird das Projekt

Prozesse und Techniken für die nächste Welle innovativer Anwendungen, wie Werkzeuge, Software, Materialien entwickeln;

Messmethoden und Modellierungsverfahren für das industrielle Umfeld entwickeln;

Neue Ideen verfolgen, um hochinnovative Fertigungsmetoden zur Erzeugung von 3D Nanostrukturen auf der Grundlage der Nanoimprintlithographie weiter zu entwickeln

Um die Projektziele zu erreichen, wurden sechs technische F&E-Bereiche festgelegt:

Modellierung und Design

Messmethoden und Standards

Prozesse

Stempel

Materialien

Werkzeuge

Projektnutzen
Alle sechs Teilprojekte unterstützen die Entwicklung von Herstellungsverfahren drei verschiedener Demonstratoren:

Planares optisches Element

Licht-Leit-Element und

Selbstleuchtendes "Head-up Display"

sowie die mehr zukunftsorientierte Erforschung von Prozessen.
Diese Aktivitäten werden in den vier integrierten Teilprojekten koordiniert, die durch Führungsaktivitäten sowie Maßnahmen zur Verbreitung der gewonnenen Ergebnisse unterstützt werden.

Aufgabe der micro resist technology GmbH im NaPANIL-Projekt ist die Entwicklung neuer Resiste und transparenter Arbeitsstempel für die Nanoimprintlithographie.

Website:www.napanil.org

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