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micro resist technology GmbH

Derzeit verfügbare Produkte

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Produktparameter im Überblick

Resist	Schichtdicke (3000 rpm, 30 s)	Auflösung	Wellenlänge
ma-P 1205	0,5 µm	1,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1210	1,0 µm	1,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1215	1,5 µm	1,25 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1225	2,5 µm	1,5 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1240	4,0 µm	1,75 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1275	7,5 µm	3,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1275	30 µm (350 rpm/60 s)	10,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1275 HV	11 µm	4,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1275 HV	30 µm (700 rpm/60 s)	10,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm
ma-P 1275 HV	50 µm (400 rpm/60 s)	20,0 µm	Breitband g-Linie: 436 nm i-Linie: 365 nm

Andere Schichtdicken können auf Anfrage gefertigt werden

Dazugehörige Prozesschemikalien

Resist Serie	Entwickler	Verdünner	Remover
ma-P 1200	ma-D 331 ma-D 531*	ma-T 1050	mr-Rem 660 ma-R 404S**
ma-P 1275/ ma-P 1275 HV	ma-D 331/ ma-D 531* 2.38 % TMAH	ma-T 1050	mr-Rem 660 ma-R 404S**

* metallionenfrei ** stark alkalisch

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