• Ihr Kontakt zu uns
  • micro resist technology GmbH
  • Köpenicker Str. 325
  • 12555 Berlin
  • GERMANY
  • Telefon  +49 30 64 16 70 100
  • Telefax  +49 30 64 16 70 200
  • Mail     sales@microresist.de
  • Kontakt-Formular
  • Ihre Nachricht ›››
    •
  • Bestell-Formular
  • Ihre Bestellung ›››
    •
  • Distributoren
  • Südkorea ›››
  • USA ›››
  • Italien ›››
  • Japan ›››
  • Großbritannien & Irland ›››
  • Israel ›››
  • Taiwan ›››
    •
  • Download - Service
  • FAQ ›››
  • Kataloge/ Flyer ›››
  • Newsletter ›››
    •

     

    Produkte »
    micro resist technology GmbH

     Positiv-Photoresiste-Serien             » ma-P 1275 und 1275 HV «

    Derzeit verfügbare Produkte

    » ma-P 1200

    » als PDF ›  ma-P 1275 und ma-P 1275 HV

    Wichtigste Merkmale


  • Schichtdicke bis zu 60 µm in einem Beschichtungsschritt
  • Speziell für die Galvanik von Strukturen in der Mikrosystemtechnik entwickelt
  • Hervorragende Stabilität in sauren und alkalischen Galvanikbädern
  • Geeignet auch als Ätzmaske mit guter Trocken- und Nassätzresistenz
  • Wässrig-alkalische Entwicklung
  • Leicht entfernbar
  • Kantenwinkel bis 87° mit Mask-Aligner-Belichtung
    •

    Anwendungen


  • Galvanikform für z.B.:
  • Mikrospulen
  • Mikroferdern
  • Mikrooptische Komponenten
    •
  • Ätzmaske für Metall, Halbleiter- und Glassubstrate z.B.:
  • Mikrolinsen aus Strukturen nach Resist-Reflow
    •
  • Maske für Ionenimplantation
    •

    Prozess-Schema


    Beispiele

    ma-P 1275 und ma-P 1275 HV

    50 µm
    1275 HV

    bild1_1275hv

    40 µm
    Ni-Galvanik

    bild2_1275hv

    In OrmoComp übertragene
    ma-P 1275 Reflow-Struktur

    bild3-1275hv

    ˆ nach oben ˆ
    Inhalt Mittelteil ausdrucken ›››    Inhalt Mittelteil ausdrucken