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micro resist technology GmbH
Polymere für die UV-gestützte Nanoimprint-Lithografie
Derzeit verfügbare Polymere
Produktparameter im Überblick
| Polymer | Schichtdicke (3000 rpm) |
Wellenlänge | Auflösung |
|---|---|---|---|
| Anwendung als Ätzmaske für die Strukturübertragung | |||
| mr-UVCur06 | - |
280 – 450 nm ** | 50 nm |
| mr-UVCur21-100 nm | 100 nm | 280 – 450 nm ** | ≤ 30 nm |
| mr-UVCur21-200 nm | 200 nm | 280 – 450 nm ** | ≤ 30 nm |
| mr-UVCur21-300 nm | 300 nm | 280 – 450 nm ** | ≤ 30 nm |
| mr-UVCur21SF | 1,6 µm | 280 – 450 nm ** | ≤ 30 nm |
Andere Schichtdicken können auf Anfrage gefertigt werden
** Kompatibel mit unterschiedlichen UV-Lampen und Filtersystemen
Dazugehörige Prozesschemikalien
| Polymer | Verdünner | Haftvermittler |
|---|---|---|
| mr-UVCur06 | ma-T 1070 | mr-APS1 |
| mr-UVCur21-Serie | ma-T 1070 | mr-APS1 |
| mr-UVCur21SF | - |
mr-APS1 |
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