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    Produkte »
    micro resist technology GmbH

     Polymere für die UV-gestützte Nanoimprint-Lithografie

    Derzeit verfügbare Polymere

    ...für die UV-gestützte NIL

    » mr-UVCur21 und mr-UVCur06

    » mr-UVCur21SF


    Produktparameter im Überblick

    Polymer Schichtdicke
    (3000 rpm)
    Wellenlänge Auflösung
    Anwendung als Ätzmaske für die Strukturübertragung
    mr-UVCur06
    -
    280 – 450 nm **    50 nm
    mr-UVCur21-100 nm 100 nm 280 – 450 nm ** ≤ 30 nm
    mr-UVCur21-200 nm 200 nm 280 – 450 nm ** ≤ 30 nm
    mr-UVCur21-300 nm 300 nm 280 – 450 nm ** ≤ 30 nm
    mr-UVCur21SF 1,6 µm 280 – 450 nm ** ≤ 30 nm

    Andere Schichtdicken können auf Anfrage gefertigt werden
    ** Kompatibel mit unterschiedlichen UV-Lampen und Filtersystemen

    Dazugehörige Prozesschemikalien

    Polymer Verdünner Haftvermittler
    mr-UVCur06 ma-T 1070 mr-APS1
    mr-UVCur21-Serie ma-T 1070 mr-APS1
    mr-UVCur21SF
    -
    mr-APS1


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