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    Produkte »
    micro resist technology GmbH

     NIL Polymere                                  »mr-UVCur21 und mr-UVCur06«

    Derzeit verfügbare Polymere

    ...für die thermische NIL

    » mr-I 7000E & mr-I 8000E

    » mr-NIL 6000

    » mr-I 9000E

    » mr-I PMMA

    » mr-I T85

    » mr-I 9000M

    ...für die UV-gestützte NIL

    » als PDF › mr-UVCur21 und mr-UVCur06

    Produkt-Details   » mr-UVCur21 and mr-UVCur06 «

    Wichtigste Merkmale


  • Kompatibilität mit unterschiedlichen Nanoimprint-Maschinen:
    – Wafer-scale oder Step&repeat UV-Prägungen
    – Nanoprägen im Vakuum oder unter Atmosphärendruck
  • Hervorragende Schichtqualität und Schichtdickenuniformität
  • Kurze Zykluszeiten durch schnelle Strukturfüllung
  • Strukturauflösung unter 30 nm (mr-UVCur21, durch den Stempel beschränkt, nicht durch das Polymer)
  • Sehr geringe Restschichtdicken (< 10 nm)
  • Kurze Härtungszeiten, geringe UV-Dosen, kompatibel mit unterschiedlichen UV-Lampen und Filtersystemen
  • Hohe Plasmaätzstabilität, rückstandsfreie Trockenätzungen mit Sauerstoffplasma (Silizium-freies Polymer)
  • Geeigneter Haftvermittler erhältlich
    •

    Anwendungen


  • Ätzmaske für die Strukturübertragung (Trocken- und Nassätzung)
  • Herstellung von Nanostrukturen
    – Datenspeicher
    – Nanooptik, SOE (sub-wavelength optical elements)
    – Photonische Kristalle
    – Mikro- und Nanofluidik
    – Mikroelektronik
  • Beschichtung verschiedener
    Substratmaterialien,
    z.B. Si, SiO2, Al
    •

    Prozess-Schema



    Beispiele

    mr-UVCur06

    800 nm-Quadrate geprägt,
    Periode 1200 nm,
    großflächige Prägung
    (Quelle Profactor, Österreich)

    mr-UVCur06

    350 nm Gräben,
    Restschichtdicke unter 10 nm
    (Quelle Profactor, Österreich)

    mr-UVCur06


    Beispiele

    mr-UVCur21

    80 nm Linien geprägt in mrUVCur21,
    Strukturtiefe 110 nm
    (Quelle AMO)

    mr-UVCur21

    Hervorragende Strukturfüllung,
    bei anspruchsvollen Füllfaktoren,
    Quadrate 100x100 µm2
    (Quelle AMO)

    mr-UVCur21


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