• Ihr Kontakt zu uns
  • micro resist technology GmbH
  • Köpenicker Str. 325
  • 12555 Berlin
  • GERMANY
  • Telefon  +49 30 64 16 70 100
  • Telefax  +49 30 64 16 70 200
  • Mail     sales@microresist.de
  • Kontakt-Formular
  • Ihre Nachricht ›››
  • Bestell-Formular
  • Ihre Bestellung ›››
  • Distributoren
  • Südkorea ›››
  • USA ›››
  • Italien ›››
  • Japan ›››
  • Großbritannien & Irland ›››
  • Israel ›››
  • Taiwan ›››
  • Download - Service
  • FAQ ›››
  • Kataloge/ Flyer ›››
  • Newsletter ›››
  •  

    Produkte »
    micro resist technology GmbH

     NIL Polymere                                  »mr-I T85«

    Derzeit verfügbare Polymere

    ...für die thermische NIL

    » mr-I 7000E & mr-I 8000E

    » mr-NIL 6000

    » mr-I 9000E

    » mr-I PMMA

    » als PDF › mr-I T85

    » mr-I 9000M

    ...für die UV-gestützte NIL

    » mr-UVCur21 und mr-UVCur06


    Produkt-Details   » mr-I T85«

    Wichtigste Merkmale


  • Unpolarer Thermoplast
  • Hervorragende Filmqualität 
  • Günstiges Fließverhalten während des Prägens,
    geringer Prägedruck
  • Sehr hohe optische Transparenz im UV- und
    sichtbaren Bereich
  • Hohe Plasmaätzbeständigkeit
  • vergleichbar mit Novolak-basierten Photoresisten
  • Ätzselektivität zu Silizium 9:1 (Si / mr-I T85)
  • Hohe chemische Stabilität
  • Hohe Resistenz gegen Säuren, Basen und
    polaren Lösemitteln
  • keine Wechselwirkungen mit konventionellen Photoresisten
  • Anwendungen


  • Lab-on-a-chip Systeme
  • Bio-Anwendungen
  • Mikrofluidik
  • Mikrooptische Elemente
  • Wellenleiter
  • Ein- und Mehrschichtsysteme
  • Maske für Strukturübertragungsprozesse

  • Prozess-Schema



    Beispiele

    mr-I T85

    Lab-on-a-chip System für Absorptions-
    messungen, alle Komponenten in eine
    mr-I T85 Schicht geprägt
    (Quelle: MIC / DTU)

    Mikrofluidischer Farbstofflaser
    und
    Fresnellinse
    in mr-I T85
    geprägt
    (Quelle:
    MIC / DTU)

    Photonischer Wellenleiter,
    hergestellt mit mr-I T85, 320 nm tiefe Löcher, übertragen in Silizium
    (200 nm Durchmesser)
    (Quelle: MIC / DTU)


    ˆ nach oben ˆ