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    Produkte »
    micro resist technology GmbH

     NIL Polymere                                  »mr-I 7000R & mr-I 8000R«

    Derzeit verfügbare Polymere

    ...für die UV-gestützte NIL

    » mr-UVCur21 und mr-UVCur06


    Produkt-Details   » mr-I 7000R & 8000R «

    Wichtigste Merkmale


  • Hervorragendes Nanoimprintverhalten
    - Kurze Prozesszeiten durch sehr schnellen
      Polymerfluss
    - Sub-20 nm-Auflösung
    - Geringe Restschichtdicken
    - Sehr geringe Entformkräfte für eine leichte
      Stempeltrennung
  • Längere Haltbarkeit der Trennschicht auf dem Stempel
  • Hohe Plasmaätzstabilität, vergleichbar mit Novolak-basierten Photoresisten
  • Anwendungen


  • Ätzmaske für Strukturübertragungen
  • Herstellung von Nanostrukturen für
    - Photonische Kristalle
    - High brightness LEDs
    - Datenspeicher mit „patterned media“
    - Nanooptik, SOEs
      „sub-wavelength optical elements“)
    - Mikrofluidik, Bioanwendungen

  • Prozess-Schema



    Beispiele

    mr-I 7000R & mr-I 8000R

    12 nm-Gräben mit
    50 nm Periode, in mr-I 7000R
    geprägt (Eulitha und
    Paul Scherrer Institut)

    Beispiele mr-I 7000R und 8000R

    75 nm- und 100 nm-Quadrate
    in mr-I 7030R geprägt


    Beispiele mr-I 7000R und 8000R

    75 nm- und 100 nm-
    Linien in mr-I 8000R
    geprägt,
    variable Periode

    Beispiele mr-I 7000R und 8000R


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