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micro resist technology GmbH

...für die thermische NIL

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» mr-NIL 6000

» mr-I 9000E

» mr-I PMMA

» mr-I T85

» mr-I 9000M

Wichtigste Merkmale

100 nm Gräben, 300 & 500 nm Abstand
Schichtdicke 200 nm
Prägebedingungen:
130 °C, 3 min, 50 bar

100 nm Gräben,
300 nm Abstand
Schichtdicke 200 nm
Prägebedingungen:
190 °C, 3 min, 50 bar