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micro resist technology GmbH
Derzeit verfügbare Produkte
Wichtigste Merkmale
Anorganisch-organisches Hybridpolymer
für transparente Imprintstempel
Anwendungen
Zur Herstellung von:
Prozessabfolge

Beispiele
Silizium Masterstempel
75, 100, 200, 400
und 800 nm Zwischeräume

OrmoStamp Arbeitsstempel
Repliziert vom Masterstempel
75, 100, 200, 400
und 800 nm Linien

Imprint in mrUVCur21SF
OrmoStamp Arbeitsstempel:
75, 100, 200, 400
und 800 nm Zwischenräume

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