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micro resist technology GmbH
Negativ-Photoresiste-Serien
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Die Resist-Serien ma-N 400 und ma-N 1400 unterscheiden sich in ihrem verfügbaren Schichtdickenbereich, in der Empfindlichkeit, der thermischen Stabilität der Resist-Strukturen und im Profil der ausgebildeten unterschnittenen Strukturen.
Produktparameter im Überblick
| Resist | Schichtdicke (3000 rpm, 30 s) |
Auflösung | Wellenlänge |
|---|---|---|---|
| ma-N 405 | 0,5 µm | 1,0 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 415 | 1,5 µm | 1,5 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 420 | 2,0 µm | 1,5 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 440 | 4,0 µm | 2,0 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 490 | 7,5 µm | 4,0 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 1405 | 0,5 µm | 1,0 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 1407 | 0,7 µm | 1,0 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 1410 | 1,0 µm | 1,5 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 1420 | 2,0 µm | 1,5 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 1440 | 4,0 µm | 3,0 µm | Breitband i-Linie: 365 nm |
| ma-N 2401 | 0,1 µm | 0,2 µm (DUV) 50 nm (e-beam) |
248 / 254 nm Elektronenstahl |
| ma-N 2403 | 0,3 µm | 0,2 µm (DUV) 50 nm (e-beam) |
248 / 254 nm Elektronenstahl |
| ma-N 2405 | 0,5 µm | 0,3 µm (DUV) 100 nm (e-beam) |
248 / 254 nm Elektronenstahl |
| ma-N 2410 | 1,0 µm | 0,5µm (DUV) 150 nm (e-beam) |
248 / 254 nm Elektronenstahl |
| EpoCore | 50 µm (1500 rpm, 60 s) 10 µm - 60 µm (1000 - 5000 rpm) |
Aspektverh. 5 |
Breitband i-Linie: 365 nm |
| EpoClad | 70 µm (1500 rpm, 60 s) 10 µm - 100 µm (1000 - 5000 rpm) |
Aspektverh. 1 |
Breitband i-Linie: 365 nm |
Andere Schichtdicken können auf Anfrage gefertigt werden
Dazugehörige Prozesschemikalien
| Resist Serie | Entwickler | Verdünner | Remover |
|---|---|---|---|
| ma-N 400 | ma-D 332S ma-D 331S für (ma-N 405 - NaOH basiert) |
mr-T 1049 |
mr-Rem 660 mr-Rem 400 NMP frei ma-R 404S** |
| ma-N 1400 | ma-D 533S* - TMAH basiert | ma-T 1046 | mr-Rem 660 mr-Rem 400 NMP frei ma-R 404S** |
| ma-N 2400 | ma-D 525*/ ma-D 332 ma-D 331 für (ma-N 2401) |
mr-T 1090 | mr-Rem 660 mr-Rem 400 NMP frei ma-R 404S** |
| EpoCore Brechungsindex @ 830 nm |
mr-Dev 600*** | - |
mr-Rem 500 mr-Rem 660 O2-plasma |
| EpoClad Brechungsindex @ 830 nm |
mr-Dev 600*** | - |
mr-Rem 500 mr-Rem 660 O2-plasma |
* metallionenfrei ** stark alkalisch *** lösemittelbasiert
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