Ziel:


Kosteneffiziente Methode zur Herstellung von Mikrolinsenarrays, keine teuren Geräte für die Stempelherstellung notwendig, nur Ausrüstung für die Standard-UV-Lithographie

Lösung:


Reflow des hochviskosen Positiv-Photoresists ma-P 1275 und anschließende Strukturübertragung

Herstellung der Photoresist-Form:

  • Standard Lithographie von ma-P 1275 zur Erzeugung von Säulenstrukturen
  • Reflow auf der Heizplatte, Temperaturrampe 4 – 8 K/ min ab 100 °C, 5 min Haltezeit bei 140 °C
  • Linsenstruktur gesteuert durch das Verhältnis Höhe/ Durchmesser der ursprünglichen ma-P 1275-Säulen, Halbkugeln werden mit einem Verhältnis 1 : 3 erhalten
    •


    ———————— Strukturübertragung:————————

    A

    B
  • ma-P 1275-Linsen übertragen durch reaktives Ionenätzen (RIE) z. B. in Si oder Glas
  • (optional: anschließende UV-Abformung in OrmoStamp und OrmoComp)
    •
  • UV-Abformung mit UV-härtbarem OrmoStamp
  • Aufbringen einer Trennschicht
  • OrmoStamp als Form für mehrfache UV-Abformung von OrmoComp Microlinenarrays
    •

    Reflow Schema

    reflow_120µm
    reflow_60µm_ormocomp
    Array von Linsen mit 120 µm Durchmesser, übertragen in Si durch RIE
    Array von Linsen mit 60 µm Durchmesser, übertragen in OrmoComp durch UV-Abformung