In der Nanoimprint-Lithografie (NIL) muss die Entformung des Stempels defektfrei erfolgen und darf nur geringe Kräfte erfordern. Die neuen Polymere mr-I 7000R und mr-I 8000R für die thermische NIL erfüllen diese Anforderungen noch besser als bisher. Ihre Rezepturen wurden auf exzellente Entformungs-eigenschaften und minimale Entformkräfte hin entwickelt.


Fotos mr-I 7000R und ma-I 8000R
Die beiden thermoplastischen Polymere mr-I 7000R und mr-I 8000R (Tg 50 °C bzw. 105 °C) können in Nanoimprint-Prozessen als Ätzmaske zur Herstellung von Nanostrukturen eingesetzt werden. Die Anwendungsfelder sind Datenspeicher, LEDs, Displays oder mikro- und nanooptische Bauelemente. Ihr exzellentes Prägeverhalten und ihre hohe Plasmaätzstabilität ermöglichen kurze Prozesszeiten und eine hervorragende Wiedergabegenauigkeit. Die verbesserten Trenneigenschaften erleichtern die Abformung anspruchsvoller kleiner Strukturen mit Auflösungen unter 50 nm.