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micro resist technology GmbH
Die meist gestellten Fragen zu unseren Produkten:
1) Was ist ein Hybridpolymer (ORMOCER®)?
Hybridpolymere (ORMOCER®e) sind organisch-anorganische Hybridmaterialien. Sie bestehen
aus zwei verbundenen Netzwerken: ein anorganisches (hier Si-O-Si-basiert)
und eine organisches. ORMOCER® ist ein Markenzeichen der Fraunhofer-Gesellschaft
zur Förderung der angewandten Forschung e.V. München
2) Gibt es für jedes Hybridpolymer-Produkt Verarbeitungshinweise?
Sie werden die Verarbeitungshinweise mit der Lieferung des Produkts bekommen.
Falls Sie vorher nähere Informationen zur Verarbeitung brauchen, wenden
Sie sich bitte an den Produktmanager.
3) Bestehen die Hybridpolymere den Telcordia-Test?
Hybridpolymere bestehen den Telcordia GR-1221_CORE-Test. Nach 1000
h bei 85 °C und 85 % relativer Feuchtigkeit können keine Veränderungen
der strukturierten Materialien visuell festgestellt werden. Darüber hinaus
treten keine Delaminierungen oder andere Haftungsdefekte auf.
4) Wie hoch sind die Tg-Werte (Glasübergangstemperaturen)
für die Hybridpolymere?
Vollständig UV-gehärtete Hybridpolymer-Produkte sind dreidimensional
vernetzt, so dass kein Glasübergang auftritt. Hybridpolymere sind Duromere.
5) Ist es möglich die Haftung der Hybridpolymere auf Substraten
wie Glas, Quarz oder Si zu verbessern?
Die Haftung der Hybridpolymere auf Substraten wie Glas, Quarz oder Si kann
durch eine Vorbehandlung mit OrmoPrime erhöht werden. (Zusammensetzung
und Benutzungsanleitung von OrmoPrime – siehe Verarbeitungshinweise).
6) Muss eine Trennschicht auf dem Stempel oder der Maske aufgebracht
werden?
Wir empfehlen in allen Fällen eine Trennschicht auf dem Stempel oder
der Maske aufzubringen, um einen Kontrast in der Haftung zwischen Stempel/Maske
und Substrat zu erzeugen. Es ist ratsam auch im Falle einer Abstandsbelichtung
die Maske vorzubehalten. Die gebildete Trennschicht („anti-sticking
layer“, ASL) verhindert Defekte, die durch das Kleben des Hybridpolymers
am Stempel/Maske entstehen könnten. Das meist verwendete Trennmittel
für Silizium und Siliziumdioxid ist “F13-TCS” (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl-trichlorosilan,
CAS-Nummer [78560-45-9], bei vielen Chemikalienhändlern erhältlich).
Die Verarbeitung von F13-TCS für Si- und SiO2-Stempel ist beschrieben
in: M. Beck et al., Improving Stamps for 10 nm Level Wafer Scale Nanoimprint
Lithography, Microel. Eng. 61 62 (2002), 441 448; H. Schift et al., Controlled
co-evaporation of silanes for nanoimprint stamps, Nanotechnology 16 (2005),
S171 S175.
7) Kann man auf den Prebake-Schritt verzichten?
Der Prebake-Schritt dient der Entfernung möglicher Lufteinschlüsse und zur besseren
Planarisierung der Ormocer-Schicht nach dem Auftragen. Der Prebake ist notwendig bei
lösungsmittelverdünnten Hybridpolymeren.
Achtung: Die Polymer-Schicht härtet während des Prebakes nicht und ist danach noch zähviskos!
® Eingetragenes Warenzeichen der Fraunhofergesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung in Deutschland e.V.
