Negative Photoresiste für die Laserlithographie

  • geeignet für das Laserdirektschreiben @ 405 nm
  • Verschiedene Viskositäten verfügbar für unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt

Für die Strukturübertragung: Galvanikform, Master-/ Templatefertigung, Ätzmaske

Beispiel Produkt Anwendungen Schichtdicken PDF Details
mr-DWL Serie

Permanentanwendung, konventionelle Strukturübertragungsprozesse

3 µm – 100 µm