Negative Resiste für die Elektronenstrahl- und Tief-UV Lithographie

  • geeignet für die Elektronenstrahl- und Tief- UV Belichtung
  • Verschiedene Viskositäten verfügbar für  unterschiedliche Schichtdicken in einem Schleuderbeschichtungsschritt

Für die Strukturübertragung: Ätzmaske

Beispiel Produkt Anwendungen Schichtdicken PDF Details
ma-N 2400 Serie & mr-EBL 6000 Serie

Ätzmaske

0,1 µm – 1,0 µm / 0,1 µm – 0,6 µm