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micro resist technology GmbH
Allgemeines
| Allgemeines Archiv | |||
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Girls'Day Mädchen Zukunftstag 22. April 2010 |
Wir öffneten unsere Labore, Büros und Produktionsstätten ... Aktuell gestalteten wir am 22.04.2010 den 10. Girls Day mit. Staatssekretärin Frau Almuth Nehring-Venus und 10 technikbegeisterte Mädchen konnten an mehreren Stationen in unserem Unternehmen Chemie „anfassen“ und gingen stolz mit selbst hergestellten Wafern und einer Erinnerungsurkunde nach Hause. » Mehr über den Girls'Day - Mädchen-Zukunftstag |
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Juni 2008 |
„Der Fotoresist SU 8 bietet hervorragende Potenziale für die mikrotechnische Fertigung, besitzt aber den Nachteil, sich – wenn technologisch erforderlich – nur sehr schwer wieder entfernen zu lassen.“ Das war der bisherige Kenntnisstand in der Mikrotechnologie. Die micro resist technology GmbH hat gemeinsam mit ihren Partnern in einem Projekt „UFER – Ultra Fast Epoxy Removal“ des Europäischen Netzwerks der Förderprogramme für die Mikro- und Nanotechnologie ERA-Net eine Lösung erarbeitet, mit dem diese Herausforderung erfolgreich bewältigt wird. Damit ist die Perspektive zu weiteren hochinteressanten mikrotechnischen Innovationen eröffnet! Wir möchten Sie zum 21. Workshop „Mikrotechnische Produktion“ am 17. und 18. Juni 2008 in Karlsruhe, auf dem unsere Projektergebnisse der Entwicklung des ultraschnellen Resistentfernungsverfahrens vorgestellt werden, herzlich einladen und freuen uns, Sie zu anregenden Gesprächen und Diskussionen begrüßen zu dürfen. 21. Workshop Mikrotechnische Produktion 17. - 18. Juni in Karlsruhe www.mikrotechnische-produktion.de 18. Juni » Projekte "UFER" und "FELIG" » siehe Programm  |
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November 2004 |
Die micro resist technology GmbH beteiligte sich mit 2 Posterbeiträgen am "Industrieforum Nanofabrikation - Neue Dimension der Mikrosystemtechnik" Die Veranstaltung fand am Freitag, 12.11.2004 bei der BESSY GmbH in Berlin statt. Gezeigt wurden neueste Ergebnisse zum hochaufbauenden, chemisch verstärkten Positiv-Photoresist XP mr-P 80 AV (bis 80 µm Schichthöhe) und zur Strukturierung von hochaufbauendem SU-8 (300 µm - 3600 µm Schichthöhe) mit Röntgentiefenlithographie. Zum Download der Poster im pdf-Format klicken Sie bitte die Bilder an! (90 kB / 258 kB)   |
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September 2003 MNE in Cambridge |
Posterbeitrag „Complete Technology Complete 3-D UV Microfabrication Technology on Strong Sloping Topography Substrates Using Epoxy Photoresist SU-8” auf der traditionsreichen internationalen Konferenz „Micro and Nano Engineering MNE 2003” in Cambridge (Großbritannien). Ein Artikel für den Konferenzband der Fachzeitschrift „Microelectronic Engineering” ist in Arbeit. mehr dazu » Poster » |
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Juni 2003 Harmst 2003 Monterey, California USA |
Erfolgreiche Teilnahme an der HARMST 2003, Konferenz in Monterey, CA mit einem Ergebnisbericht der Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Röntgentiefenlithographie mit Nano®SU-8. mehr dazu » |
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Januar 2003 Neues Produkt |
Seit Anfang des Jahres erweitern ORMOCER®e das Produktangebot unseres Unternehmens. ORMOCER®e sind organisch modifizierte Keramiken (engl. Ceramics), welche die harten Eigenschaften von anorganischen Keramiken mit den weichen Eigenschaften von organischen Polymeren in sich vereinen. Die Anwendungsgebiete sind vielfältig: von der Oberflächenveredelung bis hin zur medizienischen Zahnfüllung. Unser Unternehmen wird sich hier auf die Herstellung von Materialien für microoptische Komponenten, die im Bereich der Telekommunikation und der Lifesience zur Anwendung kommen, spezialisieren. |
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